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Démucilagination : Grâce à la centrifugeuse par pulvérisation VTC-200-4P, le procédé de dégommage humide consiste à appliquer un solvant organique goutte à goutte sur le film de résine photosensible à la surface du motif, ce qui dissout et élimine le film, laissant un motif propre. Les équipements de revêtement disponibles comprennent la centrifugeuse sous vide VTC-100PA, la centrifugeuse sous vide chauffante VTC-100PA-II, la centrifugeuse sous vide VTC-100, la centrifugeuse sous vide VTC-200, la centrifugeuse sous vide VTC-200PV, la centrifugeuse par pulvérisation VTC-200-4P et la centrifugeuse ultraviolette VTC-100PA-UV. Différents centrifugeuses peuvent être utilisées selon le procédé.
Un refroidisseur de laboratoire est un système de refroidissement spécialement conçu pour maintenir une température constante pour les équipements ou les procédés de laboratoire. Son principe de fonctionnement consiste à faire circuler le fluide de refroidissement (eau, éthylène glycol ou un réfrigérant spécifique) dans un circuit fermé, évacuant ainsi la chaleur de l'équipement ou de l'échantillon. Ce procédé garantit une température stable et dans la plage requise, essentielle à la précision et à la fiabilité de nombreuses applications de laboratoire.
Avec le développement rapide de l'industrie moderne, l'importance de ce produit s'est progressivement accrue. Cet équipement est également largement utilisé dans des secteurs tels que l'industrie pharmaceutique, l'électronique et la science des matériaux, qui ont des exigences élevées en matière de séchage et de polymérisation de matériaux sensibles. L'étuve de séchage de laboratoire que nous produisons répond parfaitement aux exigences élevées de ces industries et permet à nos clients d'atteindre des performances de production ou d'expérimentation élevées.
L'émergence et l'application de la technologie de pulvérisation cathodique ont connu de nombreuses étapes. Après plus de 30 ans de développement, la pulvérisation cathodique magnétron est devenue une méthode incontournable pour les films minces optiques, électriques et autres films fonctionnels. Que savez-vous de cette technologie ?
Sur la base de la pulvérisation cathodique magnétron, un vide poussé et un environnement de croissance à haute température sont utilisés, ainsi que la technologie plasma, pour améliorer l'efficacité du dépôt réactif et réaliser l'épitaxie de films par pulvérisation cathodique magnétron. Le film ainsi préparé présente une meilleure orientation du réseau et des propriétés cristallines exceptionnelles. Il trouve de nombreuses applications dans les domaines de la supraconductivité quantique, des matériaux ferroélectriques, piézoélectriques et thermoélectriques, entre autres. Le vide poussé permet de réduire l'influence des impuretés et d'éviter toute réaction indésirable des particules pulvérisées avec d'autres gaz lors du dépôt.