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L'émergence et l'application de la technologie de pulvérisation cathodique ont connu de nombreuses étapes. Après plus de 30 ans de développement, la pulvérisation cathodique magnétron est devenue une méthode incontournable pour les films minces optiques, électriques et autres films fonctionnels. Que savez-vous de cette technologie ?

Sur la base de la pulvérisation cathodique magnétron, un vide poussé et un environnement de croissance à haute température sont utilisés, ainsi que la technologie plasma, pour améliorer l'efficacité du dépôt réactif et réaliser l'épitaxie de films par pulvérisation cathodique magnétron. Le film ainsi préparé présente une meilleure orientation du réseau et des propriétés cristallines exceptionnelles. Il trouve de nombreuses applications dans les domaines de la supraconductivité quantique, des matériaux ferroélectriques, piézoélectriques et thermoélectriques, entre autres. Le vide poussé permet de réduire l'influence des impuretés et d'éviter toute réaction indésirable des particules pulvérisées avec d'autres gaz lors du dépôt.

APE 2025 est l'un des salons les plus importants et les plus influents d'Asie consacrés aux matériaux avancés et aux technologies énergétiques. Il rassemble les plus grandes entreprises et instituts de recherche scientifique du monde. Notre stand a accueilli des centaines de visiteurs, dont des professionnels d'universités, d'instituts de recherche scientifique et d'entreprises de renom, et nous sommes devenus l'un des points forts du salon.

Des films minces irréguliers entraîneront un écart dans les données expérimentales et affecteront la précision des résultats de recherche. La technologie traditionnelle de revêtement de film est facilement affectée par les techniques d'exploitation, la précision de l'équipement et les facteurs environnementaux, et il est difficile d'obtenir un revêtement uniforme sur une grande surface.

Combining high efficiency and precision: