Enrobeuse par pulvérisation cathodique magnétron
1. La machine de revêtement par pulvérisation cathodique à magnétron sous vide peut utiliser une chambre à vide de pulvérisation cathodique de grande capacité et une cible de pulvérisation cathodique de zone correspondante en fonction des caractéristiques d'ionisation du gaz dans le champ électrique pour rendre le revêtement de pulvérisation cathodique plus uniforme et plus pur.
2. La tête de pulvérisation de la machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide adopte la technologie de refroidissement Peltier pour obtenir des revêtements à particules fines hautes performances.
3. La machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron sous vide peut utiliser une tête de pulvérisation refroidie par eau et un étage refroidi par eau.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Liaoning
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation des machines de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron avec refroidisseur d'eau :
Les machines de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron avec refroidisseur d'eau GSL-1100X-SPC-16M utilisent l'effet de pulvérisation cathodique produit par le bombardement de particules sur la cible sous vide pour éjecter les atomes ou molécules cibles de la surface solide et les déposer sur le substrat pour former une couche mince. Il s'agit d'une technologie de préparation de couches minces par dépôt physique en phase vapeur (PVD). Cet équipement de revêtement simple, fiable et économique est adapté à la préparation de divers échantillons de films composites en laboratoire et à la production d'électrodes expérimentales en matériaux non conducteurs. Les machines de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron avec refroidisseur d'eau peuvent être utilisées en laboratoire pour la préparation d'échantillons au microscope électronique à balayage. De petite taille, elles permettent un gain de place en laboratoire et sont faciles à utiliser, idéales pour les débutants.
Avantages du revêtement par pulvérisation cathodique PVD :
1. Le dispositif de pulvérisation Pvd est équipé d'un vacuomètre et d'un courantomètre de pulvérisation pour surveiller l'état de fonctionnement en temps réel.
2. Le dispositif de revêtement par pulvérisation Pvd peut contrôler la pression de la chambre à vide, le courant d'ionisation et sélectionner le gaz d'ionisation requis en ajustant le contrôleur de courant de pulvérisation et la micro-vanne à air sous vide pour obtenir le meilleur effet de revêtement.
3. La bague d'étanchéité en caoutchouc sur le bord de la cloche du pulvérisateur à pulvérisation PVD adopte une conception spéciale pour garantir que la cloche en verre ne s'effondrera pas pendant une utilisation à long terme.
4. Le connecteur d'électrode haute tension scellé en céramique utilisé par le revêtement par pulvérisation PVD est plus durable que le joint en caoutchouc ordinaire.
Paramètres techniques du revêtement par pulvérisation PVD :
| Nom du produit | GSL-1100X-SPC-16M Enduiseur par pulvérisation PVD | |
| Modèle de produit | GSL-1100X-SPC-16M | |
| Conditions d'installation | Cet équipement doit être utilisé à une altitude inférieure à 1000 m, à une température de 25℃±15℃ et à une humidité de 55%Rh±10%Rh. 1. Eau : L'équipement doit être équipé d'une machine à eau de refroidissement à circulation automatique (remplie d'eau pure ou d'eau déionisée). 2. Électricité : AC220V 50Hz, doit être bien mis à la terre. 3. Gaz : La chambre de l'équipement doit être remplie d'argon (pureté supérieure à 99,99 %) et une bouteille de gaz argon (avec un réducteur de pression) doit être préparée. 4. Établi : dimensions 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacité de charge supérieure à 50 kg. 5. Dispositif de ventilation : non nécessaire. | |
| Paramètres principaux | 1. Cible : Ø50mm. 2. Chambre à vide : Ø160mm×120mm. 3. Degré de vide : ≤4×10-2mbar. 4. Courant maximal : 100 mA. 5. Temps limite réglable : 9999 s. 6. Micro vanne à air sous vide : connectée à un tuyau Ø3 mm. 7. Tension limite : 1600 V CC. 8. Pompe mécanique : 2L/s. 9. Matériau cible : · Exigence de taille : φ50 mm × (0,1-0,5) mm (épaisseur). · Convient pour la pulvérisation d'Au, Ag, Cu et d'autres métaux (disponibles dans notre société). | |
10. Spécifications du produit : · Dimensions : 360 mm × 300 mm × 380 mm. · Poids: · Poids total : 50 kg. · Poids net de la machine principale : 15 kg. |
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Accessoires standards du revêtement par pulvérisation cathodique PVD :
| Non. | Nom | Qté | Image |
| 1 | Cible de pulvérisation d'or | 1 pièce | -- |
| 2 | Soupape à aiguille d'admission | 1 pièce | -- |
| 3 | Fusible | 2 pièces | -- |
Accessoires optionnels du revêtement par pulvérisation cathodique PVD :
| Non. | Nom | Fonction | Image |
| 1 | Diverses cibles de pulvérisation telles que l'or, l'indium, l'argent, le platine, etc. | (Facultatif) | -- |
À propos de nous:
Nous appliquons des normes élevées en matière de qualité de nos produits et accordons une attention particulière aux détails de la logistique et de l'emballage. Le transport des instruments de précision est crucial. Tout dommage peut perturber la production. Notre équipe d'emballage a suivi une formation rigoureuse et maîtrise parfaitement les techniques d'emballage des instruments de précision. À cette fin, nous avons mis en place un système logistique complet et collaborons avec des entreprises de logistique de renommée mondiale pour vous garantir une livraison rapide de vos produits.
