Machine de pulvérisation plasma à 3 cibles
1. Ce revêtement par pulvérisation plasma à cible rotative à 3 cibles présente une conception compacte, économisant de l'espace en laboratoire et permettant de le placer sur un bureau.
2. Ce revêtement par pulvérisation plasma à cible rotative 33 est doté d'un panneau de commande PLC, ce qui rend le fonctionnement plus pratique et intuitif, réduisant ainsi les erreurs expérimentales.
3. Notre machine de pulvérisation plasma à cible rotative à 3 cibles est le fruit de nombreuses années d'expérience, répondant pleinement aux besoins des clients et offrant des résultats supérieurs.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique plasma :
L'équipement de pulvérisation plasma à 3 cibles VTC-16-3HD est un système compact, certifié CE, pour le dépôt de couches minces par pulvérisation plasma. Il permet de revêtir des substrats d'un diamètre maximal de 50,8 mm (2 pouces). Cet équipement est doté d'un écran tactile et peut pulvériser trois matériaux cibles différents. Le temps de pulvérisation peut être réduit pour les couches minces et augmenté pour les couches plus épaisses. L'équipement de pulvérisation plasma à 3 cibles VTC-16-D est principalement conçu pour la production de couches métalliques minces, avec une zone de production allant jusqu'à 100,8 mm (4 pouces). Sa taille compacte et son excellent rapport qualité-prix en font un système de revêtement idéal pour une grande variété de couches métalliques minces.
Principales caractéristiques de la machine de revêtement par pulvérisation plasma :
1. L'équipement de pulvérisation plasma à 3 cibles est équipé d'un panneau de commande PLC, d'un écran tactile de 4,3 pouces et d'un contrôle de température PID.
2. Les paramètres contrôlables de la machine de revêtement par pulvérisation plasma comprennent le niveau de vide, le courant, la position de la cible et la température de chauffage du substrat.
3. La machine de revêtement par pulvérisation plasma peut être utilisée avec une pompe à vide et des pinces à dégagement rapide à soufflet en acier inoxydable KFD25.
4. La machine de revêtement par pulvérisation plasma est certifiée CE.
Paramètres techniques de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique plasma :
| Nom du produit | Équipement de pulvérisation plasma à 3 cibles VTC-16-3HD | |
| Modèle | VTC-16-3HD 3 | |
| Paramètres principaux | 1. Alimentation du pulvérisateur plasma à cible rotative à 3 lames : 220 V CA, 50/60 Hz 2. Courant de pulvérisation du pulvérisateur plasma à cible rotative à 3 points : 0-40 mA, réglable 3. Puissance : <1 kW 4. Tension de sortie : 1 680 V CC maximum | |
| Chambre de pulvérisation cathodique | 1. Matériau : Chambre en quartz 2. Dimensions : diamètre extérieur 166 mm × diamètre intérieur 150 mm × 150 mm 3. Étanchéité : joint torique 4. Un déflecteur à commande manuelle est installé sur le couvercle de la bride pour la pré-pulvérisation de la cible. Un raccord à compression de 6,35 mm de diamètre sert d'orifice d'entrée d'air pour le raccordement au tuyau d'arrivée. Une vanne de purge d'air manuelle permet d'injecter de l'air dans la chambre en quartz. 5. Un couvercle en maille d'acier inoxydable recouvre toute la chambre en quartz pour protéger le plasma. |
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6. Le débit du gaz de travail entrant dans la chambre en quartz est contrôlé en ajustant la vanne de contrôle de micro-précision située sur le côté droit du boîtier, ajustant ainsi le niveau de vide à l'intérieur de la chambre. 7. Le courant de pulvérisation est contrôlé en ajustant le potentiomètre situé sur le côté droit du boîtier.
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| Cible | 1. Trois cibles en cuivre sont standard. 2. Dimensions cibles : φ47 x (0,1-3) mm d'épaisseur. 3. D'autres cibles métalliques sont disponibles à l'achat auprès de notre société ; veuillez contacter notre service commercial pour plus de détails. 4. Un déflecteur à commande manuelle est installé pour la pré-pulvérisation de la cible. | |
| Étape d'échantillonnage | 1. Une platine porte-échantillon rotative de 50 mm avec des vis sur la colonne de support de la platine porte-échantillon pour ajuster la hauteur de la platine porte-échantillon. 2. Angle de rotation de la platine échantillon : 0/120/240 degrés. 3. La distance entre la cible et la platine porte-échantillon est réglable de 20 à 70 mm. 4. La platine porte-échantillon peut être chauffée en option, avec une température maximale de 500 °C. |  |
| Panneau de contrôle | Un panneau de commande tactile intégré PLC de 1,4" contrôle le vide, le courant et le temps de pulvérisation de l'échantillon. 2. Une fonction d'enregistrement des données enregistre les paramètres de processus tels que le vide, le courant et le temps de pulvérisation pour chaque cycle de pulvérisation, facilitant ainsi l'accès aux données pour les clients. |  |
| Système de vide (en option) | 1. Modèle : VRD-8 2. Débit de pompage : 2,2 L/s 3. Puissance du moteur : 370 W 4. Pression ultime : 5 × 10-1 Pa (à vide). 5. Pression réelle : ≤ 5 Pa (20 minutes de pompage mécanique dans des conditions froides). |  |
6. Si vous souhaitez obtenir un degré de vide plus élevé (10-5 toor ou mieux), vous pouvez choisir d'acheter des unités de vide poussé nationales ou importées.
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| Caractéristiques | Dimensions : 460 mm × 400 mm × 500 mm (L × l × H) Poids : environ 20 kg |  |
| Instructions | 1. Plusieurs cycles de pulvérisation cathodique sont nécessaires pour obtenir l'épaisseur de film souhaitée. 2. Avant la pulvérisation, assurez-vous que la tête de pulvérisation, la cible, l'échantillon et le porte-échantillon sont propres. 3. Pour assurer une bonne adhérence entre le film et le substrat, nettoyez la surface de ce dernier avant la pulvérisation cathodique. Notre équipement de nettoyage peut être utilisé à cet effet. 4. Cet équipement peut être utilisé pour la pulvérisation cathodique dans une boîte à gants (atmosphère Ar ou N2). | |
| Précautions | 1. La pression dans la chambre ne doit pas dépasser 0,02 MPa (pression relative). 2. En raison de la pression élevée à l'intérieur de la bouteille de gaz, un détendeur doit être installé lors de l'introduction du gaz dans le tube de quartz. Pour des raisons de sécurité, nous recommandons de ne pas dépasser une pression de 0,02 MPa. Pour une précision et une sécurité accrues, nous vous conseillons d'acquérir un détendeur auprès de notre société, dont la plage de pression est de 0,01 MPa à 0,1 MPa. 3. Nous déconseillons l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. Si votre procédé requiert l'utilisation de tels gaz, veuillez mettre en œuvre les mesures de protection et de sécurité antidéflagrantes appropriées. Notre société décline toute responsabilité en cas de problèmes liés à l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. | |
| Conformité | La certification CE, UL ou CSA est disponible moyennant un supplément. | |
À propos de nous:
Parallèlement, notre gamme de produits couvre de nombreux domaines des équipements de laboratoire : scies de découpe et de hachage, machines de meulage et de polissage, systèmes de fusion, étuves de laboratoire, etc. Pour vos différentes orientations de recherche, nous disposons des équipements adaptés pour vous accompagner dans vos projets et en améliorer les performances et la précision.
Nous proposons également des services personnalisés. Compte tenu des variables propres à chaque expérience, nous pouvons élaborer des solutions ou formuler des recommandations adaptées à votre situation. Veuillez consulter notre équipe pour plus de détails.
