Petite machine de pulvérisation plasma magnétron CC
1. Ce pulvérisateur cathodique magnétronique DC de laboratoire est spécialement conçu pour les besoins de revêtement métallique et peut être utilisé avec une variété de matériaux métalliques.
2. La platine porte-échantillon de ce pulvérisateur cathodique magnétronique DC de laboratoire est réglable en hauteur, ce qui lui permet d'accueillir des échantillons de tailles différentes.
3. Ce pulvérisateur cathodique magnétronique DC de laboratoire peut être utilisé en option avec notre unité à vide poussé pour atteindre des niveaux de vide encore plus élevés.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation de la machine de pulvérisation cathodique magnétronique DC de laboratoire :
Le VTC-16-D est un petit appareil de pulvérisation cathodique magnétronique à courant continu doté d'une tête cible de 5 cm de diamètre et d'un porte-échantillon réglable. Cet instrument compact est principalement conçu pour la production de films métalliques. Grâce à sa taille réduite et son excellent rapport qualité-prix, il constitue un système de revêtement idéal pour divers films minces métalliques.

Caractéristiques principales de la machine de pulvérisation cathodique magnétronique DC de laboratoire :
Le pulvérisateur magnétronique est compact, simple à utiliser et facile à manipuler.
· Ce petit instrument de pulvérisation cathodique à plasma magnétron est doté d'une petite tête cible à contrôle magnétique et peut revêtir des métaux tels que l'or, l'argent et le platine.
Paramètres techniques de l'instrument de pulvérisation cathodique à plasma magnétronique de petite taille :
| Nom du produit | Instrument de pulvérisation cathodique plasma à magnétron compact à cible unique VTC-16-D | |
| Modèle | VTC-16-D | |
| Spécifications de base | 1. Alimentation du petit appareil de pulvérisation cathodique magnétronique : 220 V CA 50/60 Hz 2. Puissance de la machine de pulvérisation cathodique magnétronique CC de laboratoire : <1000 W 3. Tension de sortie de la machine de pulvérisation cathodique magnétronique de laboratoire : 500 V CC 4. Courant de pulvérisation : 0-80 mA, réglable 5. Durée de pulvérisation : 0-120 s, réglable | |
| Chambre de pulvérisation cathodique | 1. Dimensions de la chambre en quartz : diamètre extérieur 166 mm × diamètre intérieur 150 mm×Hauteur 150 mm 2. Joint : Joint torique en caoutchouc fluoré 3. Un obturateur à commande manuelle est installé sur le couvercle de la bride pour la pré-pulvérisation de la cible. Un raccord à compression de 6,35 mm de diamètre sert d'orifice d'entrée d'air pour le raccordement du tuyau d'arrivée d'air. Une vanne de purge d'air manuelle permet de remplir la chambre en quartz d'air. 4. Une grille en acier inoxydable recouvre l'intégralité de la chambre en quartz pour protéger le plasma.
| |
5. Le débit du gaz de travail dans la chambre est contrôlé en ajustant la vanne de contrôle de micro-précision située sur le côté droit du boîtier, ajustant ainsi le niveau de vide à l'intérieur de la chambre. 6. Le courant de pulvérisation est contrôlé en ajustant le potentiomètre situé sur le côté droit du boîtier.
| ||
| Tête de cible et matériau de la cible | 1. Tête cible de pulvérisation cathodique magnétronique de 2 pouces sans refroidissement par eau. La température de fonctionnement maximale de la tête cible est de 80 °C. Au-delà de 80 °C, la tête cible perd son magnétisme et devient inutilisable. 2. Durée de pulvérisation : réglable de 1 à 120 secondes 3. Cible en cuivre standard incluse 4. Dimensions cibles requises : φ2" x épaisseur (0,5-5) mm 5. Convient pour la pulvérisation cathodique d'Au, Ag, Cu et autres métaux (disponibles à l'achat auprès de notre société). | |
| Étape d'échantillonnage de la machine de pulvérisation cathodique magnétronique CC de laboratoire | 1. Une platine porte-échantillon à hauteur réglable, avec une distance réglable entre la platine porte-échantillon et la cible de 25 à 70 mm. 2. Taille de l'étage d'échantillonnage : φ2" 3. Chauffage optionnel de l'étage d'échantillon, avec une température de chauffage maximale de 500 °C.
| |
| Manomètre à vide Pirani | 1. Plage de mesure : 1 × 10-4 mbar à 1000 mbar (1 × 10-4 à 750 torr) 2. Précision : 1000 mbar à 20 mbar (30 % de la lecture) 20 à 0,002 mbar (2 % de la lecture) 3. Répétabilité : 20 à 0,002 mbar (0,000 à 0,002 mbar) 2 %) 4. Humidité de fonctionnement : ≤80 % à 30 °C, ≤50 % à 40 °C, sans condensation ; 5. Température de fonctionnement : 5 °C à 60 °C |
|
| Jauge d'épaisseur de couche mince (en option) | 1. Un appareil de mesure d'épaisseur de film vibrant à quartz de précision est installé sur l'instrument, permettant une surveillance en temps réel de l'épaisseur du film avec une résolution de 0,10 Å. 2. L'écran LED permet à la fois l'affichage et la saisie des données d'épaisseur du film.
| |
| Système de vide (en option) | 1. Modèle : VRD-8 2. Débit de pompage : 2,2 L/s 3. Puissance du moteur : 370 W 4. Pression ultime : 5 × 10-1Pa (déchargé) 5. Pression réelle : ≤ 5 Pa (pompage mécanique pendant 20 minutes dans des conditions froides) |
|
6. Pour des niveaux de vide plus élevés (10-5des unités à vide poussé (tonnes ou plus), nationales ou importées, sont disponibles.
| ||
| Spécifications de la machine de pulvérisation cathodique magnétronique DC de laboratoire | Dimensions : 500 mm × 350 mm × 550 mm (L × l × H) Poids : Environ 20 kg (pompe à vide et système de refroidissement par eau exclus) |
|
| Exigences d'utilisation de l'équipement | 1. Plusieurs cycles de pulvérisation cathodique sont nécessaires pour obtenir l'épaisseur de film souhaitée. 2. Avant la pulvérisation, assurez-vous que la tête de pulvérisation, la cible, le substrat et le porte-échantillon sont propres. 3. Pour assurer une bonne adhérence entre le film et le substrat, nettoyez la surface du substrat avant la pulvérisation. | |
| Période de garantie | Garantie d'un an et assistance technique à vie. Remarques particulières : 1. Les consommables tels que les éléments chauffants, les tubes de quartz et les creusets d'échantillons ne sont pas couverts par la garantie. 2. Les dommages causés par l'utilisation de gaz corrosifs et acides ne sont pas couverts par la garantie. | |
| Précautions | · La pression à l'intérieur de la chambre ne doit pas dépasser 0,02 MPa (pression relative). En raison de la pression interne relativement élevée de la bouteille de gaz, un détendeur doit être installé lors de l'introduction du gaz dans le tube de quartz. Pour des raisons de sécurité, nous recommandons de ne pas dépasser une pression de 0,02 MPa. Pour une précision et une sécurité accrues, nous vous conseillons d'acquérir un détendeur de notre gamme, dont la plage de pression est de 0,01 à 0,1 MPa. Nous déconseillons l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. Si votre procédé requiert l'emploi de tels gaz, veuillez mettre en œuvre les mesures de protection et de sécurité antidéflagrantes appropriées. Notre société décline toute responsabilité en cas de problèmes liés à l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. | |
| Conformité | La certification CE, UL ou CSA est disponible moyennant un supplément. | |
À propos de nous:
Si vous achetez nos produits pour votre usage personnel, vous bénéficierez de précision, de fiabilité, de commodité et d'efficacité.
Nous proposons des services personnalisés. Vous trouverez sur notre site web une variété de modèles aux spécifications diverses, vous permettant de choisir l'équipement le mieux adapté à votre projet. Vous pouvez également nous contacter pour obtenir des recommandations et une réponse satisfaisante.
Notre objectif est de fournir à nos clients des équipements intelligents, économes en énergie et respectueux de l'environnement, répondant aux exigences actuelles en matière de haute efficacité et de développement durable.
Après votre achat, nous assurons le service après-vente. Nous sommes entièrement responsables de tout dysfonctionnement imprévu. Nous restons également à votre disposition pour toute question ou préoccupation que vous pourriez avoir lors de l'utilisation.
Les besoins en matière d'instruments de pulvérisation cathodique plasma pour couches minces se diversifient de plus en plus dans divers secteurs industriels. Forts de nos capacités de R&D et de notre connaissance approfondie du secteur, nous avons développé cet instrument de pulvérisation cathodique plasma pour couches minces, performant, précis et stable, afin d'aider nos clients à améliorer la qualité de leurs produits, à réduire leurs coûts de production et à jeter les bases d'un développement futur de la technologie des couches minces.
En ce qui concerne le matériel, nous vous fournissons un équipement rigoureusement inspecté et testé.
En matière de service, nous proposons des prestations complètes pour renforcer votre confiance.
En matière de collaboration, nous espérons une coopération à long terme avec vous, afin d'améliorer notre niveau technique et de soutenir pleinement vos projets.










