
Petite machine de pulvérisation plasma magnétron à courant continu
1. Ce revêtement par pulvérisation magnétron CC de laboratoire est spécialement conçu pour les besoins de revêtement métallique et peut être utilisé avec une variété de matériaux métalliques.
2. La platine d'échantillonnage de ce revêtement par pulvérisation cathodique magnétron CC de laboratoire est réglable en hauteur, ce qui lui permet d'accueillir des échantillons de différentes tailles.
3. Ce revêtement par pulvérisation magnétron CC de laboratoire peut être utilisé en option avec notre unité à vide élevé pour atteindre des niveaux de vide encore plus élevés.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron CC de laboratoire :
Le VTC-16-D est un petit appareil de pulvérisation plasma magnétron CC doté d'une tête cible de 5 cm de diamètre et d'une platine porte-échantillon réglable. Ce petit appareil de pulvérisation plasma magnétron est principalement conçu pour la production de films métalliques. Grâce à sa taille compacte et à son excellent rapport qualité-prix, il constitue un système de revêtement idéal pour divers films métalliques minces.
Principales caractéristiques de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron CC de laboratoire :
· Le magnétron sputtering coater est compact, simple à utiliser et facile à utiliser.
· Le petit instrument de pulvérisation plasma magnétron est doté d'une petite tête de cible de contrôle magnétique et peut revêtir des métaux tels que l'or, l'argent et le platine.
Paramètres techniques du petit instrument de pulvérisation plasma magnétron :
Nom du produit | Instrument de pulvérisation plasma magnétron à cible unique VTC-16-D | |
Modèle | VTC-16-D | |
Spécifications de base | 1. Puissance d'entrée du petit instrument de pulvérisation plasma magnétron : 220 V CA 50/60 Hz 2. Puissance de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron CC de laboratoire : < 1 000 W 3. Tension de sortie de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron CC de laboratoire : 500 V CC 4. Courant de pulvérisation : 0-80 mA, réglable 5. Temps de pulvérisation : 0 à 120 s, réglable | |
Chambre de pulvérisation | 1. Dimensions de la chambre à quartz : diamètre extérieur 166 mm x diamètre intérieur 150 mm x hauteur 150 mm 2. Joint : Joint torique en caoutchouc fluoré 3. Un obturateur manuel est installé sur le couvercle de la bride pour la pré-pulvérisation de la cible. Un raccord à compression de 6,35 mm de diamètre sert d'orifice d'admission d'air pour le raccordement du tuyau d'admission d'air. Une vanne de purge d'air manuelle permet de remplir la chambre en quartz. 4. Un treillis en acier inoxydable recouvre toute la chambre à quartz pour protéger le plasma. | |
5. Le flux de gaz de travail dans la chambre est contrôlé en ajustant la vanne de contrôle de micro-précision sur le côté droit du boîtier, ajustant ainsi le niveau de vide dans la chambre. 6. Le courant de pulvérisation est contrôlé en ajustant le potentiomètre situé sur le côté droit du boîtier. | ||
Tête de cible et matériau de la cible | 1. Une tête de pulvérisation magnétron de 2 pouces sans refroidissement par eau. La température maximale de fonctionnement de la tête de pulvérisation magnétron est de 80 °C. Au-delà de 80 °C, la tête perd son magnétisme et devient inutilisable. 2. Temps de pulvérisation : réglable de 1 à 120 secondes 3. Cible en cuivre standard incluse 4. Exigence de taille cible : φ2" x (0,5-5) mm d'épaisseur 5. Convient pour la pulvérisation d'Au, Ag, Cu et d'autres métaux (disponibles à l'achat dans notre société). | |
Exemple d'étape de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron CC de laboratoire | 1. Une platine d'échantillon à hauteur réglable, avec une distance réglable entre la platine d'échantillon et la cible de 25 à 70 mm. 2. Taille de l'échantillon : φ2" 3. Chauffage optionnel de l'étage d'échantillon, avec une température de chauffage maximale de 500°C. | |
Manomètre à vide Pirani | 1. Plage de mesure : 1 × 10-4 mbar à 1000 mbar (1 × 10-4 à 750 torr) 2. Précision : 1000 mbar à 20 mbar (30 % de la lecture) 20 à 0,002 mbar (2 % de la lecture) 3. Répétabilité : 20 à 0,002 mbar (0,000 à 0,002 mbar) 2%) 4. Humidité de fonctionnement : ≤ 80 % à 30 °C, ≤ 50 % à 40 °C, sans condensation ; 5. Température de fonctionnement : 5°C-60°C | |
Jauge d'épaisseur de couche mince (en option) | 1. Une jauge d'épaisseur de film vibrante à quartz de précision est installée sur l'instrument, permettant une surveillance en temps réel de l'épaisseur du film avec une résolution de 0,10 Å. 2. L'écran LED permet à la fois l'affichage et la saisie des données d'épaisseur du film. | |
Système de vide (en option) | 1. Modèle : VRD-8 2. Débit de pompage : 2,2 L/s 3. Puissance du moteur : 370 W 4. Pression ultime : 5 × 10-1 Pa (sans charge) 5. Pression réelle : ≤ 5 Pa (pompage mécanique pendant 20 minutes dans des conditions froides) | |
6. Pour des niveaux de vide plus élevés (10-5 tonnes ou plus), des unités à vide élevé nationales ou importées sont disponibles. | ||
Spécifications de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron CC de laboratoire | Dimensions : 500 mm × 350 mm × 550 mm (L × l × H) Poids : environ 20 kg (hors pompe à vide et équipement de refroidissement par eau) | |
Exigences d'utilisation de l'équipement | 1. Plusieurs cycles de pulvérisation sont nécessaires pour obtenir l’épaisseur de film souhaitée. 2. Avant la pulvérisation, assurez-vous que la tête de pulvérisation, la cible, le substrat et le support d'échantillon sont propres. 3. Pour assurer une bonne adhérence entre le film et le substrat, nettoyez la surface du substrat avant la pulvérisation. | |
Période de garantie | Garantie d'un an et assistance technique à vie. Remarques spéciales : 1. Les consommables tels que les éléments chauffants, les tubes de quartz et les creusets d'échantillons ne sont pas couverts par la garantie. 2. Les dommages causés par l’utilisation de gaz corrosifs et acides ne sont pas couverts par la garantie. | |
Précautions | · La pression à l’intérieur de la chambre ne doit pas dépasser 0,02 MPa (pression relative). La pression interne de la bouteille de gaz étant relativement élevée, un détendeur doit être installé sur la bouteille lors de l'introduction du gaz dans le tube de quartz. Pour plus de sécurité, nous recommandons une pression inférieure à 0,02 MPa. Pour plus de précision et de sécurité, nous recommandons l'achat d'un détendeur de notre société, dont la plage de réglage est comprise entre 0,01 MPa et 0,1 MPa. Nous déconseillons l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. Si votre procédé nécessite l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques, veuillez mettre en œuvre des mesures de protection et de sécurité antidéflagrantes appropriées. Notre entreprise décline toute responsabilité en cas de problème causé par l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. | |
Conformité | La certification CE, UL ou CSA est disponible moyennant un coût supplémentaire. |
À propos de nous:
Si vous achetez nos produits pour votre propre usage, vous bénéficierez de précision, de fiabilité, de commodité et d’efficacité.
Nous proposons des services personnalisés. Vous trouverez sur notre site web une variété de modèles aux spécifications variées, vous permettant de choisir l'équipement le mieux adapté à votre projet. Vous pouvez également nous contacter pour obtenir des recommandations d'équipement et une réponse satisfaisante.
Notre objectif est de fournir aux clients des équipements intelligents, économes en énergie et respectueux de l'environnement qui répondent aux exigences actuelles en matière de haute efficacité et de développement durable.
Après votre achat, nous assurons un service après-vente. Nous sommes entièrement responsables de tout dysfonctionnement imprévu. Nous restons également à votre disposition pour toute question ou préoccupation pendant l'utilisation.
Les exigences d'application des instruments de pulvérisation de couches minces au plasma sont de plus en plus variées dans divers secteurs. Grâce à nos solides capacités de R&D et à notre connaissance approfondie du secteur, nous avons développé cet instrument de pulvérisation de couches minces au plasma efficace, précis et stable pour aider nos clients à améliorer la qualité de leurs produits, à réduire leurs coûts de production et à poser les bases solides du développement futur de la technologie des couches minces.
Concernant l'équipement, nous mettons à votre disposition du matériel rigoureusement inspecté et testé.
En ce qui concerne le service, nous proposons des prestations complètes pour renforcer votre confiance.
En ce qui concerne la collaboration, nous espérons une coopération à long terme avec vous, améliorer notre niveau technique et soutenir pleinement vos projets.