Instrument de pulvérisation plasma à trois cibles
1. Le revêtement par pulvérisation plasma à trois cibles est équipé d'un vacuomètre et d'un courantomètre de pulvérisation, qui peuvent surveiller le fonctionnement de l'équipement à tout moment pour obtenir un effet de revêtement stable et fiable.
2. Le revêtement par pulvérisation plasma à trois cibles peut ajuster la pression de la chambre à vide, le courant d'ionisation et sélectionner le gaz d'ionisation approprié via le contrôleur de courant de pulvérisation et la micro-vanne à air sous vide pour optimiser l'effet de revêtement.
3. Le joint en caoutchouc spécialement conçu pour le bord de la cloche en verre ne provoquera pas de fissures dans la cloche en verre après une utilisation à long terme, améliorant ainsi la durabilité du revêtement par pulvérisation plasma à trois cibles.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Liaoning
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation du revêtement par pulvérisation cathodique à trois cibles :
La machine de revêtement par pulvérisation cathodique à trois cibles GSL-1100X-SPC-16-3 est un équipement de revêtement simple, fiable et économique, basé sur le principe de la pulvérisation cathodique à courant continu (CC) par diode (le procédé de revêtement par pulvérisation cathodique à diode CC utilise l'effet de pulvérisation cathodique produit par le bombardement de particules du matériau cible sous vide pour éjecter les atomes ou molécules du matériau cible de la surface solide et les déposer sur le substrat afin de former un film mince. Il s'agit d'une technique de préparation de films minces par dépôt physique en phase vapeur (PVD). La particularité de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique à trois cibles réside dans le fait que trois cibles sont installées dans une chambre à vide et que la platine porte-échantillon rotative peut appliquer successivement trois matériaux sur le même échantillon. Elle est donc adaptée à la préparation de divers échantillons de films composites en laboratoire et à la production d'électrodes expérimentales pour matériaux non conducteurs. Compacte, elle permet un gain de place en laboratoire, est facile à utiliser et convient particulièrement aux applications en laboratoire.
Avantages du revêtement par pulvérisation plasma à trois têtes cibles :
1. Le revêtement par pulvérisation plasma à trois têtes cibles utilise des joints d'électrode haute tension scellés en céramique, qui sont plus durables et réduisent les coûts de maintenance par rapport aux joints en caoutchouc traditionnels.
2. Le dispositif de revêtement par pulvérisation plasma à trois têtes cibles utilise une chambre à vide de pulvérisation de grande capacité et une cible de pulvérisation de zone correspondante, ce qui peut améliorer l'uniformité et la pureté du revêtement.
3. Le revêtement par pulvérisation plasma à trois têtes cibles a passé la certification CE et répond aux normes de sécurité.
Paramètres techniques de trois enrobeuses à pulvérisation plasma ciblées :
| Nom du produit | GSL-1100X-SPC-16-3 Enrobeuse par pulvérisation plasma à trois têtes cibles |
| Modèle de produit | GSL-1100X-SPC-16-3 |
| Conditions d'installation | Cet équipement doit être utilisé à une altitude inférieure à 1000 m, à une température de 25℃±15℃ et à une humidité de 55%Rh±10%Rh. 1. Eau : Non nécessaire. 2. Électricité : AC220V 50Hz, doit être bien mis à la terre. 3. Gaz : La chambre de l'équipement doit être remplie d'argon (pureté supérieure à 99,99 %), et vous devez préparer votre propre bouteille de gaz argon (avec un réducteur de pression). 4. Établi : dimensions 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacité de charge supérieure à 50 kg. 5. Dispositif de ventilation : Non requis. |
| Paramètres principaux | 1. Diamètre de la cible : Ø45mm. 2. Chambre à vide : Ø160mm×120mm. 3. Degré de vide : ≤4×10-2mbar. 4. Position cible : 3. 5. Courant maximal : 50 mA. 6. Temps limite réglable : 900 s. 7. Micro vanne à air sous vide : connectée à un tuyau Ø3 mm. 8. Tension limite : 1600 V CC. 9. Pompe mécanique : 2L/s. |
Accessoires standards de trois enrobeuses à pulvérisation plasma ciblées :
| NON. | Nom | Qté | Image |
| 1 | Cible de pulvérisation d'or | 1 pièce | -- |
| 2 | Cible de pulvérisation de cuivre | 1 pièce | -- |
| 3 | Cible de pulvérisation d'aluminium | 1 pièce | -- |
| 4 | Accessoires d'évaporation thermique | 1 morceau | -- |
| 5 | Fusible | 2 pièces | -- |
Accessoires optionnels du pulvérisateur à trois cibles :
| NON. | Nom | Fonction | Image |
| 1 | Diverses cibles de pulvérisation telles que l'or, l'indium, l'argent, le platine, etc. | (Facultatif) | -- |
À propos de nous:
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