Introduction de la plaque chauffante du laboratoire sous vide

Dans le travail quotidien des laboratoires de matériaux, nous sommes souvent confrontés à un dilemme délicat : la nécessité d'effectuer un traitement thermique ou un revêtement sur des échantillons ultra-minces (tels que des cristaux, des plaquettes de semi-conducteurs et des substrats de piles à combustible) dans un environnement à haute température (300℃-500℃), mais les méthodes de fixation mécaniques traditionnelles peuvent facilement provoquer des dommages dus aux contraintes.

Pour relever ce défi expérimental, notre équipe a spécialement conçu l'aspirateur HP-500V.plaque chauffante de laboratoireAujourd'hui, nous aimerions aborder, d'un point de vue technique, la manière dont ce dispositif parvient à un équilibre entre l'adsorption sous vide poussé et le chauffage uniforme à haute température.

I. Matériau de base : Pourquoi insistons-nous sur l'utilisation de laiton coulé ?

Beaucoupplaques chauffantes de laboratoireOn trouve sur le marché des alliages d'aluminium ou de la céramique, mais pour le HP-500V, nous avons fixé la température maximale à 500 °C. Dans cette plage de températures, l'aluminium ordinaire est sujet au fluage, tandis que la céramique, bien que résistante aux hautes températures, présente une uniformité thermique légèrement inférieure.

Nous avons choisi le laiton coulé comme matériau principal pour la plaque chauffante.

• Résistance à la déformation : Le laiton coulé conserve une excellente résistance mécanique à 500 °C et, associé à une conception de structure de dissipation thermique à double couche, il garantit que la surface ne se déforme pas lors d'un fonctionnement prolongé à haute température.

• Uniformité thermique : La conductivité thermique élevée du cuivre permet un transfert rapide de la chaleur de l’élément chauffant à toute sa surface. Pour les analyses chimiques et les mesures physiques, cela signifie que la différence de température entre le centre et la périphérie est naturellement minimisée par les propriétés physiques du cuivre.

II. Adsorption sous vide :

La principale caractéristique du HP-500Vplaque chauffante de laboratoire il s'agit des micropores d'adsorption de précision disposés dans la zone de chauffage effective de 350 mm × 240 mm.

Principe de fonctionnement : Leplaque chauffante de laboratoire Nécessite une pompe à vide externe (débit de pompage recommandé ≥ 70 L/min). La chambre à pression négative située en bas crée une forte force d'adsorption à la surface de la plaque chauffante.

Scénarios d'application : Ceci est particulièrement important pour la pulvérisation par pyrolyse et le revêtement de substrats de piles à combustible. Il adsorbe fermement l'échantillon de film mince à la surface, résolvant ainsi le problème de fixation de l'échantillon et, grâce au contact étroit de celui-ci avec la plaque de cuivre, améliorant considérablement l'efficacité du transfert de chaleur et éliminant les erreurs de température dues aux interstices d'air.

III. Un matériel performant et un logiciel à la hauteur. Cet appareil n'est pas qu'une simple plaque chauffante, mais un système de contrôle précis de la température.

Régulation de température par intelligence artificielle PID : Nous utilisons un algorithme PID basé sur l’IA, garantissant une précision de régulation de température stable à ±1 °C. Pendant la phase de chauffage, le système limite automatiquement les dépassements ; en phase de maintien de la température, il réagit rapidement aux faibles variations de température ambiante.

Configuration de puissance : La conception haute puissance de 3500 W assure une vitesse de chauffage rapide, réduisant ainsi le temps d'attente des expériences.

IV. Suggestions d'installation et d'utilisation du point de vue d'un ingénieur.

En tant que techniciens du fabricant, afin de vous aider à utiliser efficacement cet équipement, nous avons quelques suggestions basées sur notre expérience en matière de dépannage :

Concernant le flux d'air ambiant (très important) :

Bien que l'appareil soit puissant, veuillez absolument éviter de le placer à proximité de bouches d'aération de climatiseur, dans le flux d'air direct d'un ventilateur ou sous une hotte aspirante à fort courant d'air. Les données expérimentales montrent qu'un fort courant d'air convectif perturbe considérablement l'uniformité du champ de température à la surface de la plaque chauffante, entraînant une baisse de température en bordure due à l'effet de refroidissement par convection.

Environnement d'alimentation électrique :

Leplaque chauffante de laboratoire L'appareil présente un courant nominal d'environ 16 A (sous 220 V / 3 500 W), mais une surtension se produira au démarrage. Les instructions d'installation précisent qu'une alimentation monophasée de 220 V, 50 Hz et 25 A est requise et doit être correctement mise à la terre. Veuillez vérifier le circuit électrique de votre laboratoire et n'utilisez pas de multiprises non conformes.

Exercice de préchauffage :

Bien que la plaque soit en cuivre coulé, il est recommandé, avant de réaliser des expériences de haute précision, de maintenir la température de consigne pendant 10 à 15 minutes après l'avoir atteinte. Ceci permet à la chaleur d'atteindre un équilibre thermique complet dans toute la plaque de cuivre. Le placement de l'échantillon à ce stade garantit une meilleure reproductibilité des données expérimentales.

ÀShenyang Kejing, avant le HP-500Vplaque chauffante de laboratoire Dès sa sortie d'usine, nous effectuons des tests rigoureux d'isolation, de mise à la terre et d'étanchéité sous vide.

Cette plaque chauffante en laiton, d'apparence simple, témoigne de notre maîtrise des technologies de traitement des matériaux. Que vous effectuiez le séchage de la pérovskite ou le traitement thermique des métaux, nous espérons que la HP-500V vous sera utile.plaque chauffante de laboratoire deviendra votre partenaire le plus robuste, stable et efficace sur votre paillasse de laboratoire.