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Coucheuse de pulvérisation plasma magnétron à vide poussé à tête unique
La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique VTC-600-1HD est un équipement de revêtement sous vide poussé nouvellement développé par notre société et est utilisée pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film d'alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc.
La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique VTC-600-1HD est équipée d'un pistolet cible, choisissant une cible magnétique forte ou une cible magnétique faible.Coucheuse par pulvérisation plasma Coucheuse de pulvérisation plasma magnétron coucheuse compacte par pulvérisation plasmaSend Email Détails -
Machine de revêtement par pulvérisation plasma magnétron sous vide poussé à double tête
L'appareil de pulvérisation magnétron à double tête VTC-600-2HD est un équipement de revêtement sous vide poussé nouvellement développé par notre société et est utilisé pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film en alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc. La coucheuse par pulvérisation magnétron à double tête VTC-600-2HD est équipée de deux pistolets cibles et de deux alimentations, une alimentation RF pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux non conducteurs. matériaux et une alimentation CC pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux conducteurs.
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Machine de pulvérisation par pulvérisation plasma avec 3 sources de pulvérisation
La coucheuse de pulvérisation magnétron à trois têtes VTC-600-3HD est un équipement de revêtement nouvellement développé par notre société et est utilisée pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film en alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, un film diélectrique. , film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc. La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois têtes VTC-600-3HD est équipée de trois pistolets cibles, d'une alimentation RF pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux non conducteurs et de deux alimentations CC. fournitures pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux conducteurs.
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Machine de pulvérisation par pulvérisation plasma avec 3 sources de pulvérisation et boîte à gants
Le système de préparation de batterie à couche mince VGB-600-3HD peut effectuer des opérations expérimentales dans une boîte à gants et est utilisé pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film en alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, un film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc. Le système est équipé de trois pistolets cibles et d'une alimentation RF pour le revêtement par pulvérisation cathodique de divers matériaux cibles. L'alimentation RF peut être connectée à n'importe quelle tête cible par un commutateur de transfert.
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Instrument de pulvérisation à trois cibles au plasma
1. Le dispositif de revêtement par pulvérisation plasma à trois cibles est équipé d'un vacuomètre et d'un courantomètre de pulvérisation, qui peuvent surveiller le fonctionnement de l'équipement à tout moment pour obtenir un effet de revêtement stable et fiable.
2. Le dispositif de revêtement par pulvérisation plasma à trois cibles peut ajuster la pression de la chambre à vide, le courant d'ionisation et sélectionner le gaz d'ionisation approprié via le contrôleur de courant de pulvérisation et la micro-vanne à air sous vide pour optimiser l'effet de revêtement.
3. Le joint en caoutchouc du bord de la cloche spécialement conçu ne provoquera pas de fissure dans la cloche en verre après une utilisation à long terme, améliorant ainsi la durabilité du revêtement par pulvérisation plasma à trois cibles.Enrobeuse à trois cibles par pulvérisation plasma Enrobeuse à pulvérisation plasma à trois têtes cibles Enrobeuse à trois ciblesSend Email Détails -
Enrobeuse par pulvérisation cathodique magnétron
1. La machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron sous vide peut utiliser une chambre à vide de pulvérisation cathodique de grande capacité et une cible de pulvérisation cathodique de zone correspondante en fonction des caractéristiques d'ionisation du gaz dans le champ électrique pour rendre le revêtement par pulvérisation cathodique plus uniforme et plus pur.
2. La tête de pulvérisation de la machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide adopte la technologie de refroidissement Peltier pour obtenir des revêtements à particules fines hautes performances.
3. La machine de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide peut utiliser une tête de pulvérisation refroidie par eau et une étape refroidie par eau.Machine de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron sous vide Machines de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron avec refroidisseur d'eau Enduit par pulvérisation PVDSend Email Détails -
Machine de revêtement par pulvérisation plasma à cible unique
1. Le joint d'électrode haute tension scellé en céramique de l'enrobeuse à plasma de bureau est plus durable que le joint en caoutchouc couramment utilisé.
2. Selon les caractéristiques d'ionisation du gaz dans le champ électrique, le pulvérisateur à plasma de bureau utilise une chambre à vide de pulvérisation de grande capacité et une cible de pulvérisation de zone correspondante pour rendre le revêtement de pulvérisation plus uniforme et plus pur.
3. Le pulvérisateur à plasma de bureau a passé la certification CE.Enrobeuse à plasma de bureau Enrobeuse par pulvérisation plasma Enrobeuse compacte à cible unique par pulvérisation plasmaSend Email Détails
