L'industrie se tourne progressivement vers les procédés de revêtement par pulvérisation ; cependant, toutes les méthodes de pulvérisation n'offrent pas une efficacité équivalente. Les chercheurs s'intéressent de plus en plus à une solution permettant d'obtenir une uniformité à l'échelle nanométrique tout en évitant les problèmes d'agglomération des particules et de gaspillage de matériau souvent associés aux buses pneumatiques traditionnelles.
1. Les défis de précision en science des matériaux : Dans le domaine de la recherche sur les matériaux avancés, et plus particulièrement sur les semi-conducteurs à large bande interdite tels que le carbure de silicium (SiC) et le nitrure de gallium (GaN), l'orientation cristalline est cruciale. Un écart de seulement 0,1 degré peut entraîner des fluctuations importantes de la mobilité électronique, de la conductivité thermique et de la qualité de la croissance épitaxiale.
En science des matériaux et en métallographie, la précision des microstructures observées au microscope dépend entièrement de la qualité de la préparation de l'échantillon. Si le ponçage et le polissage mécanique traditionnels sont des méthodes courantes, elles présentent souvent un inconvénient majeur : la formation d'une couche déformée mécaniquement.