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Machine d'enduction rotative sans vide de bureau
VTC-50A Spin Coater adopte des systèmes d'alimentation indépendants pour la partie moteur et la partie commande, et le système de contrôle de vitesse adopte un micro-ordinateur monopuce avec une anti-interférence élevée pour contrôler, de sorte que la vitesse de rotation soit très élevée et stable dans la plage de 1000 -8000 tr/min. La coucheuse comporte deux étapes pendant son fonctionnement, à savoir l'étape T1 à basse vitesse et l'étape T2 à haute vitesse.
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Spin Coater (8 000 tr/min, plaquette de 4" max.) avec 3 mandrins à vide
La VTC-100 Vacuum Spin Coater est équipée de 3 mandrins à vide (pour standard) de différentes tailles, et différents mandrins à vide peuvent être utilisés en fonction de la taille des échantillons. Pendant le travail, la coucheuse sous vide VTC-100 utilise la méthode d'adsorption sur plaque sous vide pour fixer l'échantillon sur la plaque d'échantillon. L'équipement utilise un programme en deux étapes pour contrôler la vitesse.
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Machine d'enduction rotative compacte (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) Conception à mandrin bas
La coucheuse sous vide VTC-100B est une version améliorée de la coucheuse sous vide VTC-100. Le couvercle supérieur est plié pour l'ouverture et la fermeture et est équipé d'un verrou de sécurité. En même temps, il a la fonction de protection contre le couvercle ouvert pour mieux garantir la sécurité de l'opérateur.
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Machine d'enduction à mandrin sous vide programmable (500-6 000 tr/min, 8" max)
La machine d'enduction sous vide VTC-200 présente les avantages d'un fonctionnement simple, d'un nettoyage pratique et d'une petite taille. Il est principalement utilisé dans le processus de croissance de films dans les laboratoires des collèges, universités et instituts de recherche scientifique. Pendant le travail, la coucheuse sous vide VTC-200 utilise la méthode d'adsorption sur plaque sous vide pour fixer l'échantillon sur la plaque d'échantillon. L'équipement utilise un programme en deux étapes pour contrôler la vitesse.
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Machine de revêtement à rotation haute vitesse (10 000 tr/min et 5 pouces maximum)
La machine d'enduction sous vide VTC-100PA convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Elle peut être utilisée pour les solutions de revêtement d'acide fort et d'alcali fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour standard) en fonction de la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution.
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Machine d'enduction rotative à grande vitesse avec couvercle chauffant à 100 ºC
La machine d'enduction sous vide VTC-100PA-I convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Elle peut être utilisée pour les solutions de revêtement d'acide fort et d'alcali fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour standard) en fonction de la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution.
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Machine d'enduction rotative à grande vitesse avec couvercle chauffant à 200 ºC
La machine d'enduction sous vide VTC-100PA-II convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Elle peut être utilisée pour les solutions de revêtement d'acide fort et d'alcali fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour standard) en fonction de la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution.
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Machine de revêtement à rotation haute vitesse (10 000 tr/min et 5 pouces maximum) avec couvercle UV
Le revêtement rotatif UV VTC-100PA-UV convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Le couvercle supérieur adopte une source de lumière UV et est particulièrement adapté aux matériaux sensibles à la lumière UV, qui peuvent rapidement solidifier le film enduit. De plus, la lampe UV a également une fonction de polymérisation, qui peut polymériser le monomère en un film polymère.
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Machine de revêtement anticorrosion (6 000 tr/min et plaquette de 6 pouces max.)
La machine d'enduction sous vide VTC-200P convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution. Le couvercle supérieur de la chambre peut chauffer l'échantillon (fonction facultative), ce qui est bénéfique pour le processus de revêtement de matériaux en couches minces à haute viscosité.
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