Acheter Scie à découper et à découper,Machine de meulage et de polissage,Machine de revêtement de film?

2000 Temps de fondation
100+ Nombre d'employés
14000m² Couvert en usine

Scie à fil diamanté pour coupe max. 50 mm

Machine de revêtement à rotation haute vitesse (10 000 tr/min et 5 pouces maximum)

Scie diamantée à basse vitesse avec lames de coupe de 4"

Machine de rodage et de polissage avec pression centrale

Machine d'enduction de film de moulage de ruban compact avec couvercle chauffant supérieur

Machine de rodage et de polissage de précision de 8 pouces

Système de fusion à l'arc sous vide compact avec 7 cavités

Enrobeuse de bureau à vitesse variable (1-200 mm/min)

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SOLUTION

Avis sur les dispositions relatives aux vacances de la Fête du Printemps en 2025

2025/01/14

Chers clients et amis : Merci pour votre confiance et votre soutien continus envers Shenyang Kejing Auto-instrument Co., Ltd. ! Conformément à la réglementation nationale relative aux jours fériés et compte tenu de la situation actuelle de l'entreprise, les dispositions relatives aux vacances du Festival du Printemps 2025 sont désormais notifiées comme suit :

Quelle est la différence entre DC, IF et RF dans la pulvérisation cathodique ?

2025/03/21

L'émergence et l'application de la technologie de pulvérisation cathodique ont connu de nombreuses étapes. Après plus de 30 ans de développement, la pulvérisation cathodique magnétron est devenue une méthode incontournable pour les films minces optiques, électriques et autres films fonctionnels. Que savez-vous de cette technologie ?

Quels sont les facteurs affectant la pulvérisation magnétron sous vide poussé ?

2025/03/20

Sur la base de la pulvérisation cathodique magnétron, un vide poussé et un environnement de croissance à haute température sont utilisés, ainsi que la technologie plasma, pour améliorer l'efficacité du dépôt réactif et réaliser l'épitaxie de films par pulvérisation cathodique magnétron. Le film ainsi préparé présente une meilleure orientation du réseau et des propriétés cristallines exceptionnelles. Il trouve de nombreuses applications dans les domaines de la supraconductivité quantique, des matériaux ferroélectriques, piézoélectriques et thermoélectriques, entre autres. Le vide poussé permet de réduire l'influence des impuretés et d'éviter toute réaction indésirable des particules pulvérisées avec d'autres gaz lors du dépôt.