Machine de pulvérisation plasma à 3 cibles
1. Ce pulvérisateur à plasma à 3 cibles rotatives présente une conception compacte, économisant de l'espace en laboratoire et lui permettant d'être placé sur un bureau.
2. Ce revêtement par pulvérisation plasma à cible rotative 33 est doté d'un panneau de commande PLC, ce qui rend le fonctionnement plus pratique et intuitif, réduisant ainsi les erreurs expérimentales.
3. Notre enrobeuse à plasma à 3 cibles rotatives est développée grâce à des années d'expérience, répondant pleinement aux besoins des clients et offrant des résultats supérieurs.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation de la machine de revêtement par pulvérisation plasma :
L'équipement de pulvérisation plasma 3 cibles VTC-16-3HD est un système compact et certifié CE capable de recouvrir des substrats d'un diamètre maximal de 5 cm. Doté d'un écran tactile, il permet de pulvériser trois matériaux cibles différents. Pour les couches minces, le temps de pulvérisation peut être réduit ; pour les couches plus épaisses, il peut être augmenté. L'équipement de pulvérisation plasma 3 cibles VTC-16-D est principalement conçu pour la production de couches métalliques minces, avec une surface de production allant jusqu'à 10 cm. Sa compacité et son excellent rapport coût-efficacité en font un système de revêtement idéal pour une grande variété de couches métalliques minces.
Principales caractéristiques de la machine de revêtement par pulvérisation plasma :
1. L'équipement de pulvérisation plasma à 3 cibles est équipé d'un panneau de commande PLC, d'un écran tactile de 4,3 pouces et d'un contrôle de température PID.
2. Les paramètres contrôlables de la machine de revêtement par pulvérisation plasma comprennent le niveau de vide, le courant, la position de la cible et la température de chauffage du substrat.
3. La machine de revêtement par pulvérisation plasma peut être utilisée avec une pompe à vide et des pinces à dégagement rapide à soufflet en acier inoxydable KFD25.
4. La machine de revêtement par pulvérisation plasma est certifiée CE.
Paramètres techniques de la machine de revêtement par pulvérisation plasma :
| Nom du produit | Équipement de pulvérisation plasma à 3 cibles VTC-16-3HD | |
| Modèle | VTC-16-3HD 3 | |
| Paramètres principaux | 1. Puissance d'entrée du pulvérisateur plasma à 3 cibles rotatives : CA 220 V 50/60 Hz 2. Courant de pulvérisation du pulvérisateur plasma à 3 cibles rotatives : 0-40 mA, réglable 3. Puissance : <1 kW 4. Tension de sortie : maximum 1 680 V CC | |
| Chambre de pulvérisation | 1. Matériau : Chambre en quartz 2. Dimensions : diamètre extérieur 166 mm × diamètre intérieur 150 mm × 150 mm 3. Étanchéité : joint torique 4. Un déflecteur manuel est installé sur le couvercle de la bride pour la pré-pulvérisation de la cible. Un raccord à compression de φ 6,35 mm sert d'orifice d'admission d'air pour le raccordement au tuyau d'admission. Une vanne de purge d'air manuelle permet d'injecter de l'air dans la chambre en quartz. 5. Un couvercle en maille d'acier inoxydable recouvre toute la chambre à quartz pour protéger le plasma. |
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6. Le débit du gaz de travail entrant dans la chambre à quartz est contrôlé en ajustant la vanne de contrôle de micro-précision sur le côté droit du boîtier, ajustant ainsi le niveau de vide dans la chambre. 7. Le courant de pulvérisation est contrôlé en ajustant le potentiomètre situé sur le côté droit du boîtier.
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| Cible | 1. Trois cibles en cuivre sont standard. 2. Dimensions de la cible : φ47 x (0,1-3) mm d'épaisseur. 3. D'autres cibles métalliques sont disponibles à l'achat auprès de notre société ; veuillez contacter notre service commercial pour plus de détails. 4. Un déflecteur à commande manuelle est installé pour pré-pulvériser la cible. | |
| Étape d'échantillonnage | 1. Une platine d'échantillon rotative de 50 mm avec des vis sur la colonne de support de la platine d'échantillon pour régler la hauteur de la platine d'échantillon. 2. Angle de rotation de l'étage d'échantillonnage : 0/120/240 degrés. 3. La distance entre la cible et la platine d'échantillonnage est réglable de 20 à 70 mm. 4. La platine d'échantillonnage peut être chauffée en option, avec une température maximale de 500°C. |  |
| Panneau de contrôle | Un panneau de commande à écran tactile intégré PLC 1,4" contrôle le vide, le courant et le temps de pulvérisation de l'échantillon. 2. Une fonction d'enregistrement des données enregistre les paramètres du processus tels que le vide, le courant et le temps de pulvérisation pour chaque cycle de pulvérisation, ce qui permet aux clients d'accéder facilement aux données. |  |
| Système de vide (en option) | 1. Modèle : VRD-8 2. Débit de pompage : 2,2 L/s 3. Puissance du moteur : 370 W 4. Pression ultime : 5 × 10-1 Pa (sans charge). 5. Pression réelle : ≤ 5 Pa (20 minutes de pompage mécanique dans des conditions froides). |  |
6. Si vous souhaitez obtenir un degré de vide plus élevé (10-5 toor ou mieux), vous pouvez choisir d'acheter des unités à vide élevé nationales ou importées.
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| Caractéristiques | Dimensions : 460 mm × 400 mm × 500 mm (L × l × H) Poids : environ 20 kg |  |
| Instructions | 1. Plusieurs cycles de pulvérisation sont nécessaires pour obtenir l’épaisseur de film souhaitée. 2. Avant la pulvérisation, assurez-vous que la tête de pulvérisation, la cible, l'échantillon et le support d'échantillon sont propres. 3. Pour garantir une bonne adhérence entre le film et le substrat, nettoyez la surface du substrat avant la pulvérisation. Notre équipement de nettoyage peut être utilisé à cet effet. 4. Cet équipement peut être utilisé pour la pulvérisation cathodique en boîte à gants (atmosphère Ar ou N2). | |
| Précautions | 1. La pression de la chambre ne doit pas dépasser 0,02 MPa (pression relative). 2. En raison de la pression élevée à l'intérieur de la bouteille de gaz, un détendeur doit être installé lors de l'introduction du gaz dans le tube de quartz. Pour plus de sécurité, nous recommandons une pression inférieure à 0,02 MPa. Pour plus de précision et de sécurité, nous recommandons l'achat d'un détendeur de notre société, dont la plage de réglage est comprise entre 0,01 MPa et 0,1 MPa. 3. Nous déconseillons l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. Si votre procédé nécessite l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques, veuillez mettre en œuvre des mesures de protection et de sécurité antidéflagrantes appropriées. Notre entreprise décline toute responsabilité en cas de problème lié à l'utilisation de gaz inflammables, explosifs ou toxiques. | |
| Conformité | La certification CE, UL ou CSA est disponible moyennant un coût supplémentaire. | |
À propos de nous:
Dans le même temps, notre gamme de produits couvre plusieurs domaines d'équipements de laboratoire, scies de découpe et de découpage, rectifieuses et polisseuses, systèmes de fusion, fours de laboratoire, etc. Pour vos différentes directions de recherche, nous disposons d'équipements correspondants pour assister votre projet et améliorer les performances et la précision réelles du projet.
Nous proposons également des services personnalisés. En raison des variables propres à chaque expérience, nous pouvons élaborer des conceptions ou des recommandations supplémentaires en fonction de votre situation. Veuillez consulter notre équipe pour plus de détails.
