Revêtement par pulvérisation à rotation ultrasonique (300-3000 tr/min, plaquette max. 12")

Présentation du produit :

Le pulvérisateur/enduction par centrifugation ultrasonique VTC-300USS combine les avantages de l'enduction par centrifugation et de la pulvérisation ultrasonique. Cet équipement convertit le courant alternatif standard de 50 à 60 Hz en un courant de sortie haute fréquence (15 à 100 kHz) de forte puissance pour actionner la tête d'atomisation ultrasonique, qui transforme ensuite l'énergie électrique haute fréquence en énergie de vibration mécanique.

Ce système permet la formation de revêtements en phase liquide denses et uniformes sur de grands substrats, notamment par précipitation à basse température (par exemple, dépôt de ferrite RF/micro-ondes), par dépôt de polymères, de poudres et de composites, ainsi que sur des substrats structurés ou irréguliers. Il offre un contrôle précis de la stœchiométrie de la solution, du débit d'éjection des gouttelettes atomisées et de leur taille. Le système peut également fonctionner en mode de rotation ou de pulvérisation indépendants.

Le VTC-300USS utilise un moteur pas à pas et une pompe volumétrique à microprocesseur pour déposer avec précision la solution de revêtement, chauffée ou non. L'atomiseur ultrasonique, monté sur un bras de support pivotant, garantit une excellente uniformité de revêtement. Les particules de brouillard éjectées par l'atomiseur se déposent sur le substrat pour former la structure de matériau souhaitée, permettant ainsi la préparation de films minces à l'échelle micro- et nanométrique.

L'appareil de revêtement peut accueillir des substrats jusqu'à 305 mm (12 pouces) de diamètre et prend en charge le chauffage du substrat pour un séchage rapide du film (avec option).Module de chauffage et de cuisson).

Cette technique de dépôt est particulièrement adaptée à la formation de films d'oxyde et est utilisée depuis longtemps pour la préparation d'électrodes transparentes. Elle est aujourd'hui largement employée dans la fabrication de cellules solaires à pérovskite et d'autres matériaux en couches minces de pointe.

Main Fechômage

1. Méthode d'atomisation ultrasonique — La solution est atomisée puis pulvérisée sur le substrat pour former la structure de matériau souhaitée. Un module de chauffage et de cuisson optionnel peut être intégré pour optimiser la formation du film. Cette technique de préparation de matériaux est particulièrement adaptée au dépôt d'oxydes et est utilisée depuis longtemps dans la fabrication d'électrodes transparentes. Elle est aujourd'hui largement employée dans la production de cellules solaires à pérovskite.

2. Combine les avantages du revêtement par centrifugation et du revêtement par pulvérisation, permettant la formation de revêtements en phase liquide denses et uniformes sur de grands substrats.

3. Applicable à une large gamme de procédés, y compris la précipitation à basse température (par exemple, pour le dépôt de ferrite RF/micro-ondes), les revêtements polymères, les revêtements en poudre et composites, et les revêtements sur des substrats structurés ou irréguliers.

4. Le système prend en charge le fonctionnement en modes rotation et pulvérisation indépendants.

TParamètres techniques

Nom du produit	VTC-300USS Pulvérisateur à ultrasons à rotation pour enduire/coller
Modèle de produit	VTC-300USS
conditions d'installation	1. Température et humidité : 10-85 % HR (à 25 °C sans condensation) Température : 0-45 °C. 2. Il n'y a pas de source sismique importante ni de gaz corrosifs à proximité de l'équipement. 3. Eau : drainage des eaux usées 4. Électricité : monophasé : AC220V 50Hz 10A . 5. Gaz : ① Débit d'aspiration sous vide (pompe à vide) d'au moins 70 L/min                ② gaz comprimé (compresseur d'air) 6. Établi : dimensions recommandées : 1500 mm × 600 mmmm×dalle de 700 mm supportant une charge de 100 kg ou plus (une plateforme en béton massif est préférable) 7. Dispositif de ventilation : aucune exigence particulière
Les principaux paramètres	hôte tournant 1. Port d'alimentation de l'appareil hôte : Prise secteur avec protection : AC220V 50Hz 10A 2. Puissance de l'hôte ≤ 300 W 3. Plateau d'échantillon (ventouse) Ventouse en polypropylène : φ203 mm, diamètre maximal du substrat d'adsorption : φ305 mm 4. Mode de fonctionnement : Rotation unidirectionnelle dans le sens antihoraire 5. Vitesse de broche : 100-3000 tr/min efficace 6. Stabilité de la vitesse : ±2 % 7. Mode de commande de la broche : Régulation de vitesse continue 8. Angle de balancement du bras oscillant : 30°-75° 9. Mode de commande du bras oscillant : régulation de vitesse continue 10. Poids total : 65 kg 11. Dimensions de l'équipement : 540 mm × 720 mm × 240 mm
	atomisation ultrasonique 1. Port d'alimentation ultrasonique : AC220V 50Hz 2. Puissance ultrasonique : 200 W 3. Taille des particules : 10-20 µm 4. Débit : 0,6 pl-4 ml/min 5. Viscosité : ≤ 100 cps 6. Teneur en matières solides : ≤10% 7. Plage de viscosité du fluide : 1-50 MPa.s (cP) 8. Plage de pression d'air comprimé recommandée pour les solutions aqueuses : ~2 psi 9. Buse de pulvérisation : Embout cylindrique : diamètre de pulvérisation plus étroit ~20 mm (1 pièce) 10. Fréquence de la buse ultrasonique : 40 kHz ±10 % ; puissance d’amplitude réglable (3 niveaux)
	Système de pompe d'injection 1. Port d'alimentation de la pompe DC24V (adaptateur secteur standard "" ENTRÉE : AC100-240V 50/60Hz SORTIE : DC24V 3,75A) 2. Puissance de la pompe : ≤ 50 W 3. Dimensions : 250 × 65 × 50 mm 4. Vitesse d'injection : 0,001 à 20 mm/min 5. Vitesse de réglage fin : 0,001 à 10 mm/min 6. Diamètre de la seringue : 0,04-30 mm 7. Volume standard de l'aiguille : 20 ml 8. Plage de réglage de la course : 0,01-90 mm
	Lampe de cuisson - optionnelle 1. Puissance de chauffage : 2 kW 2. Alimentation électrique pour le chauffage : 220 V CA, 50 Hz 3. Dimensions de l'unité centrale : 660 mm × 410 mm × 635 mm 4. Méthode de chauffage : lampe chauffante infrarouge : cuisson par rayonnement 5. Température de chauffage : RT-80℃

Accessoires standard :

Accessoires optionnels :

Numéro de série	Nom	Catégorie de fonction	Lien vers l'image
1	Système d'alimentation en liquide multicanal (chauffable), dispositif de séchage, etc.	(Facultatif)	-
2	Lampes chauffantes et commandes Lampes chauffantes doubles (jusqu'à 1000 W, jusqu'à 80 °C) avec thermocouples et régulateurs de température pour chauffer le substrat par rayonnement (jusqu'à 65 °C sur des substrats métalliques 12").	(Facultatif)
3	Il est recommandé de placer l'enrobeuse centrifuge sous une hotte aspirante afin de garantir la sécurité et la santé au travail.	(Facultatif)
4	Des buses d'atomisation à gaz comprimé sont disponibles avec la certification NRTL.	(Facultatif)
5	Buses multiples personnalisées disponibles sur demande	(Facultatif)

Garantie

    Garantie limitée d'un an avec assistance à vie (hors pièces rouillées dues à des conditions de stockage inadéquates).

Logistique