Enrobeuse centrifuge sous vide et à atmosphère contrôlée
L'enrobeuse centrifuge sous vide VTC-200PV est adaptée aux procédés de fabrication de semi-conducteurs, de cristaux, de disques optiques, de plaques et de revêtements de surface, etc. La chambre de l'enrobeuse centrifuge sous vide VTC-200PV peut être mise sous vide pour enrober l'échantillon sous vide complet, ce qui est idéal pour les films s'oxydant et se détériorant facilement à l'air. Une pince permet de fixer l'échantillon lors de la mise sous vide. L'équipement peut stocker 12 programmes, chacun comportant 6 étapes d'exécution.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation du produit
L'enrobeuse centrifuge sous vide VTC-200PV est conçue pour les procédés de revêtement de surface des semi-conducteurs, des cristaux, des disques optiques, de la lithographie et des applications connexes. Elle est adaptée à la préparation de revêtements avec des solutions fortement acides ou fortement alcalines.
Ce système permet de vider la chambre de revêtement, permettant ainsi de revêtir les échantillons sous vide complet. Cette fonctionnalité est particulièrement adaptée aux matériaux en couches minces sensibles à l'oxydation ou à la dégradation à l'air. Pendant le fonctionnement sous vide, les échantillons sont fixés à l'aide d'un porte-échantillon.
Lorsque l'évacuation sous vide n'est pas utilisée, les échantillons sont maintenus sur le porte-substrat par adsorption sous vide. Le système peut enregistrer jusqu'à 12 programmes, chacun contenant 6 étapes séquentielles. Différentes vitesses de rotation peuvent être réglées pour chaque étape, permettant à l'enrobeuse d'atteindre progressivement sa vitesse maximale. Cela garantit une formation uniforme d'une fine couche à la surface de l'échantillon tout en minimisant le gaspillage de matière.
Avec des avantages tels qu'une utilisation facile, un nettoyage pratique et une conception compacte, le revêtement centrifuge sous vide VTC-200PV est largement utilisé dans les laboratoires des universités et des instituts de recherche pour la préparation de couches minces.
Caractéristiques principales
1. L'équipement peut stocker 12 programmes, chacun comportant 6 phases. La plage de réglage des accélérations et décélérations pour chaque phase est de 100 à 2000 tr/min/s, et la durée de chaque phase est de 0 à 60 s.
2. L'échantillon est fixé au moyen d'une adsorption sous vide et il peut également être fixé au moyen d'un collage ou d'un serrage, ce qui est facile à utiliser.
3. Le degré de vide peut atteindre -0,08 MPa.
4. Les échantillons peuvent être facilement centrés à l'aide de l'outil de positionnement pour réduire les vibrations ou les projections causées par un mauvais alignement.
5. Différents mandrins peuvent être utilisés selon les spécifications de l'échantillon, et le remplacement est pratique et simple.
6. Un moteur à courant continu sans balais 24 V est adopté et il présente les avantages d'une fiabilité élevée, d'une forte adaptabilité, d'une réparation et d'un entretien simples, d'un faible bruit, de faibles vibrations, d'un fonctionnement stable, d'un démarrage rapide et stable, d'un fonctionnement stable après accélération, pour assurer la cohérence et l'uniformité de l'épaisseur du revêtement.
7. La pompe à vide à barres parallèles sans huile est utilisée lorsque l'échantillon est fixé au moyen d'une absorption sous vide, et elle présente les avantages d'une petite taille, d'une structure simple, d'une utilisation facile, d'un entretien pratique et d'aucune pollution de l'environnement.
8. Le revêtement peut être réalisé dans une atmosphère de gaz inerte (tel que Ar, N2).
9. Lorsque le revêtement est effectué sous vide, le substrat de l'échantillon est fixé par collage ou serrage.
10. La chambre est fabriquée en matériau PP avec une durée de vie plus longue pour améliorer les capacités de résistance à la corrosion chimique et une excellente fissure sous contrainte, et le corps de la machine adopte une structure en aluminium moulé, qui est durable et légère.
11. Système d'exploitation anglais
12. Elle est dotée d'une fonction de protection en cas d'ouverture du capot. Lorsque le capot supérieur est ouvert pendant ou après le processus d'enduction, la machine ralentit immédiatement et rapidement jusqu'à l'arrêt complet.
13. Le contrôleur adopte un boîtier de commande avec affichage numérique LCD, qui est plus intuitif et fiable.
TParamètres techniques
Nom du produit | Enrobeuse centrifuge sous vide VTC-200PV |
Modèle de produit | VTC-200PV |
Conditions d'installation | 1. Température et humidité : 10-85 % HR (à 25 ℃ sans condensation) Température : 0-45 ℃. 2. Il n’y a pas de source de tremblement de terre puissant ni de gaz corrosif autour de l’équipement. 3. Eau : L'équipement est équipé d'une sortie d'évacuation des eaux usées 4. Électricité : Monophasé : AC220V 50Hz 10A . 5. Gaz : Le débit d'échappement sous vide (pompe à vide) n'est pas inférieur à 70 L/min (l'équipement peut laisser passer un gaz inerte protecteur) 6. Établi : Il est recommandé d'avoir une dimension de 1500 mm × 600 mm.mm×700 mm et supporte une charge de plus de 100 kg (une plate-forme en ciment solide est préférable) 7. Dispositif de ventilation : Aucune exigence particulière |
Paramètres principaux (Spécification) | 1. Interface d'alimentation : Prise d'alimentation à fusible : AC220V, 50Hz ; Spécification du fusible : 10A, φ5×20mm. 2. Puissance totale : ≤ 600 W (y compris la pompe à vide sans huile de 450 W). 3. Chambre principale (matériau) : polypropylène. 4. Porte-substrat (mandrin + mandrin à vide) : Configuration standard : 1 porte-substrat de type mandrin (adaptable pour échantillons de 2″, 3″, 4″) et 1 mandrin à vide en polypropylène Ø100 mm. 5. Mode de fonctionnement : Stocke jusqu'à 12 programmes, chacun contenant 6 étapes séquentielles. 6. Vitesse d’essorage : 500–6 000 tr/min (effectif). 7. Taux d'accélération/décélération par étape : Plage réglable : 100–2 000 tr/min/s. 8. Temps par étape : Plage réglable : 0–60 s. 9. Stabilité de la vitesse : ±1 %. 10. Système de contrôle : microcontrôleur PCB avec commande par clavier et écran LCD LMC. 11. Dimensions et poids du produit : · Unité principale : Ø250 mm × 360 mm · Boîtier de commande : 330 mm × 380 mm × 150 mm · Poids : 25 kg 12. Équipement de soutien : · Modèle : AP-1400C/V, alimenté via la prise reliée à l'unité principale · Tension : AC 220 V, 50/60 Hz, 2 A, 0,45 kW · Vide limite : –0,0933 MPa · Vitesse de pompage : 150 L/min · Pompe à vide mécanique (pour l'évacuation de la chambre de revêtement) · Modèle : VRD-8, alimenté via une prise indépendante · Tension : AC 220 V, 50 Hz, 2,5 A, 0,4 kW · Vide ultime : 5×10⁻² Pa · Vitesse de pompage : 8 m³/h |
Saccessoires standard
Non. | nom | quantité | image |
1 | Mandrin à vide (φ100 mm) | 1 pièce | |
2 | Plaque de serrage 2”, 3”, 4” | 1 pièce | |
3 | Positionneur/localisateur central (comprenant 4 goujons de positionnement) | 1 pièce | |
4 | Injecteur/seringue époxy | 1 pièce |
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5 | Pompe à vide sans huile | 1 pièce | |
6 | Pompe à vide à palettes rotatives à double clic VRD-8 | 1 pièce |
LEAccessoires en option
Non. | nom | type fonctionnel | image |
1 | Mandrin à vide d'autres spécifications | (facultatif) |
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2 | Pipette (fabriquée en Chine) | (facultatif) |
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3 | Pipette (importée) | (facultatif) |
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4 | Pompe mécanique VRD-16 | (facultatif) |
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Garantie
Garantie limitée d'un an avec assistance à vie (hors pièces rouillées en raison de conditions de stockage inadéquates)
Logistique
