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Machine d'enduction rotative à grande vitesse avec couvercle chauffant à 100 ºC
La machine d'enduction sous vide VTC-100PA-I convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Elle peut être utilisée pour les solutions de revêtement d'acide fort et d'alcali fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour standard) en fonction de la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution.
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Machine d'enduction rotative à grande vitesse avec couvercle chauffant à 200 ºC
La machine d'enduction sous vide VTC-100PA-II convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Elle peut être utilisée pour les solutions de revêtement d'acide fort et d'alcali fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour standard) en fonction de la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution.
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