• Machine de revêtement anticorrosion (6 000 tr/min et plaquette de 6 pouces max.)

    Machine de revêtement anticorrosion (6 000 tr/min et plaquette de 6 pouces max.)

    La machine d'enduction sous vide VTC-200P convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution. Le couvercle supérieur de la chambre peut chauffer l'échantillon (fonction facultative), ce qui est bénéfique pour le processus de revêtement de matériaux en couches minces à haute viscosité.

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  • Machine de revêtement par pulvérisation ultrasonique (300 à 3 000 tr/min, plaquette de 12 pouces maximum)

    Machine de revêtement par pulvérisation ultrasonique (300 à 3 000 tr/min, plaquette de 12 pouces maximum)

    Le pulvérisateur/pulvérisateur de colle ultrasonique VTC-300USS peut contrôler avec précision le rapport stœchiométrique de la solution, la vitesse de pulvérisation des particules de brouillard, la taille des particules de brouillard et d'autres paramètres. Le diamètre des substrats résorbables (de la coucheuse/pulvérisateur de colle par pulvérisation ultrasonique VTC-300USS) peut aller jusqu'à 12" (300 mm).

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  • Système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma sous vide poussé (PECVD)

    Système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma sous vide poussé (PECVD)

    Le PECVD capacitif à plaques parallèles est une technologie qui utilise le plasma pour activer des gaz réactifs afin de favoriser des réactions chimiques sur la surface du substrat ou dans l'espace proche de la surface afin de former des films à l'état solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que sous l'action d'un champ électrique à haute fréquence ou à courant continu, le gaz source est ionisé pour former un plasma, et le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz réactif est introduit, et la décharge plasma est utilisée pour activer le gaz réactif et former un dépôt chimique en phase vapeur.

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  • Coucheuse de pyrolyse par pulvérisation ultrasonique

    Coucheuse de pyrolyse par pulvérisation ultrasonique

    Le pulvérisateur de colle/pulvérisateur de pyrolyse par pulvérisation ultrasonique MSK-USP-04C utilise un moteur pas à pas et un microprocesseur pour contrôler la pompe volumétrique afin d'assurer une transmission précise des solutions à travers le set de perfusion et la continuité du processus de pulvérisation ultrasonique. Un atomiseur à ultrasons est utilisé pour préparer un mince revêtement micro-nano, et un moteur pas à pas est utilisé pour contrôler l'atomiseur pour qu'il se déplace dans les directions des axes X et Y, et la vitesse de déplacement peut être ajustée dans une certaine plage pour garantir l'uniformité du revêtement sur la surface du substrat.

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  • Système de dépôt laser pulsé sphérique

    Système de dépôt laser pulsé sphérique

    Ce système est un équipement de recherche et développement pour le système de dépôt laser sphérique pulsé (PLD). La technologie de dépôt par laser pulsé est largement utilisée et peut être utilisée pour préparer des films minces de diverses substances telles que des métaux, des semi-conducteurs, des oxydes, des nitrures, des carbures, des borures, des siliciures, des sulfures et des fluorures. Il est même utilisé pour préparer certains films de matériaux difficiles à synthétiser, tels que les films de diamant et de nitrure cubique.

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  • Machine de revêtement de grandes plaques plates MSK-AFA-W500-AL

    Machine de revêtement de grandes plaques plates MSK-AFA-W500-AL

    1. à plat revêtement machine utilise précision pas à pas boîte de vitesses moteur, PLC avec précision contrôles le revêtement vitesse. 2. Plat revêtement machine a une bonne cohérence et uniformité pour un film mince, réduisant la perte pendant le traitement. 3. Nous pouvons vous fournir des services personnalisés selon la quantité, type et autres exigences de feuille film enduction avec mandrin sous vide vous fournir.

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  • Spin Coater anticorrosion (6 000 tr/min et plaquette de 6

    Spin Coater anticorrosion (6 000 tr/min et plaquette de 6" max.) -

    La machine d'enduction sous vide VTC-200P convient au processus de semi-conducteurs, aux cristaux, aux disques optiques, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes et chaque ensemble contient 6 étapes en cours d'exécution. Le couvercle supérieur de la chambre peut chauffer l'échantillon (fonction facultative), ce qui est bénéfique pour le processus de revêtement de matériaux en couches minces à haute viscosité.

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  • Couche d'immersion thermostatique de qualité servomicronique

    Couche d'immersion thermostatique de qualité servomicronique

    Le revêtement par immersion thermostatique de qualité servomicronique PTL-UMB01 est conçu pour tremper le film dans la phase liquide. En enduisant le substrat dans la coupelle de chargement pendant un certain temps puis en le retirant verticalement, le film se développe à la surface de l'échantillon en phase liquide.

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