Enrobeuse par pulvérisation cathodique magnétron à vide poussé
1. Le vide ultime du pulvérisateur à tête unique peut atteindre 8,0X10-5Pa.
2. Le dispositif de revêtement par pulvérisation cathodique à tête unique est équipé d'un bateau de chauffage par évaporation, de 2 stations de four à source de faisceau (1 four à source de faisceau est standard), d'un ensemble de débitmètres (un ensemble de gaz argon) avec une fenêtre d'observation en verre φ150.
3. Après avoir reçu la machine de revêtement par pulvérisation cathodique à tête unique, nous fournirons également des services après-vente complets, tels que des conseils à distance.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation du dispositif de revêtement par pulvérisation magnétron sous vide poussé :
L'enrobeuse par pulvérisation magnétron sous vide poussé VTC-1HD-ZF2 est un équipement multifonctionnel de revêtement sous vide poussé, incluant un instrument de pulvérisation magnétron monocible. Elle permet de préparer des films ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, des films semi-conducteurs, des films céramiques, des films diélectriques, des films optiques, des films d'oxyde, des films durs, des films de polytétrafluoroéthylène, etc.
Avantages du revêtement par pulvérisation plasma magnétron :
1. L'enrobeuse par pulvérisation plasma magnétron est équipée d'une nacelle chauffante pour dépôt en phase vapeur, particulièrement adaptée au dépôt en phase vapeur de films métalliques sensibles à l'oxygène (tels que Ti, Al, Au, etc.). Elle est équipée d'un déflecteur rotatif, de deux fours sources de faisceau (dont un four source de faisceau est standard) et d'un jeu de débitmètres (dont un à gaz argon) avec hublot d'observation en verre φ150.
2. Champ d'application du revêtement par pulvérisation plasma magnétron : préparation d'appareils de matériaux pérovskites, matériaux bidimensionnels, cellules solaires photovoltaïques, etc.
3.3. Enrobeuse par pulvérisation cathodique avec tête unique. Puissance d'entrée : 220 V CA/50 Hz. Puissance < 3,5 kW.
Paramètres techniques du revêtement par pulvérisation plasma magnétron :
| Nom du produit | Enrobeuse par pulvérisation cathodique magnétron à vide poussé VTC-1HD-ZF2 |
| Modèle de produit | VTC-1HD-ZF2 |
| Paramètres principaux | 1. Chambre à vide : φ324X330 Vide ultime 8,0 x 10-5 Pa (système de pompe moléculaire) Taux de fuite : 2,0x10-10Pa.m3/s Le matériau est en acier inoxydable 304 soudé, traitement de polissage de surface électrochimique. La partie active est scellée avec une bague d'étanchéité en caoutchouc et la partie inactive est scellée avec une bague d'étanchéité en cuivre. La transmission de puissance adopte une liaison par couplage magnétique. La chambre à vide dispose d'une position cible de contrôle magnétique, d'un ensemble d'électrodes d'évaporation (deux) et de 2 positions de four à source de faisceau (four à source de faisceau standard à 1 faisceau). Un ensemble de débitmètres (un ensemble de gaz argon) avec une fenêtre d'observation en verre φ150 et une interface à bride C35 est réservé. |
2. Tête de cible de pulvérisation : 2 pouces (φ50,8 mm) Vide de travail : 10 Pa ~ 0,2 Pa. Taux d'utilisation du matériau cible : >35 % (cible en cuivre standard de 3 mm, vide de surface cible 0,5 Pa) Puissance MAX : < 240 W (entièrement refroidi) Tension d'isolement : >2000V (avec alimentation CC de 1 500W) | |
3. Résistance à l'évaporation : Tension de sortie d'évaporation : AC 0-8 V réglable en continu. Courant d'évaporation limite 200A. Puissance d'évaporation limite <1,6KW. La température est incontrôlable et non mesurable. | |
4. Four à source de faisceau : Capacité du creuset : 3CC. Température de chauffage : température ambiante jusqu'à 800°C. La température de chauffage peut être mesurée, ajustée et contrôlée. Précision du contrôle de la température : ±0,5°C. Creuset en quartz avec déflecteur et thermocouple en standard. Alimentation : 500W, 36V. | |
5. Étape d'échantillonnage : φ120. Contrôle de la température : température ambiante - 500°C. Vitesse : 1-20 tr/min. La platine d'échantillonnage peut être relevée et abaissée manuellement, avec une course réglable maximale de 50 mm. | |
6. Mesureur d'épaisseur de film EQ-TM106-1. 1) Alimentation : DC 5V (±10%), courant maximum 400mA. 2) Résolution de fréquence : ± 0,03 Hz. 3) Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136 Å (aluminium). 4) Précision de l'épaisseur du film : ± 0,5 %, en fonction des conditions du processus, notamment de la position du capteur, de la contrainte du matériau, de la température et de la densité. 5) Vitesse de mesure : 100 ms-1 s/temps, réglable. 6) Plage de mesure : 500000Å (aluminium). 7) Cristal de capteur standard : 6 MHz. 8) Interface informatique : interface série RS-232/485 (débit en bauds 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400 réglable, bit de données : 8, bit d'arrêt : 1, contrôle : aucun) 9) Sortie analogique : résolution 8 bits, sortie de modulation de largeur d'impulsion PWM (collecteur ouvert ou sortie interne 5 V) 10) Environnement de travail : température 0-50℃, humidité 5%-85%RH, pas de condensation. 11) Dimensions : 90 mm × 50 mm × 18 mm. | |
| 7. L'équipement est équipé en standard d'un refroidisseur (modèle KJ5000). Les clients sont tenus de fournir leur propre refroidisseur et de l'eau déionisée ou purifiée. | |
| 8. Puissance d'entrée de l'ensemble de la machine : AC220V/50Hz. Puissance <3,5KW. | |
9. Spécifications du produit : Taille : environ 1300 mm × 660 mm × 1200 mm. Poids : environ 160 kg. |
À propos de nous:
Nous disposons d'équipements de production de pointe et d'un système de gestion de la qualité rigoureux pour garantir que chaque produit répond aux normes internationales. Parmi nos équipements, notre machine de revêtement par pulvérisation cathodique à tête unique est particulièrement adaptée à l'évaporation de films métalliques sensibles à l'oxygène. Ses performances sont stables et largement utilisées dans la recherche sur les matériaux. Notre équipe de R&D innove sans cesse, en combinant la demande du marché et les retours clients pour proposer des solutions toujours plus précises et efficaces. Forts de nombreuses années d'expérience et d'expertise technique, nous avons non seulement acquis une solide réputation dans le secteur, mais aussi acquis une grande reconnaissance auprès de nombreux clients.
