Enrobeuse par pulvérisation cathodique magnétron à vide élevé
1. Le vide ultime du pulvérisateur à tête unique peut atteindre 8,0X10-5Pa.
2. Le dispositif de revêtement par pulvérisation cathodique à tête unique est équipé d'un bateau de chauffage par évaporation, de 2 stations de four à source de faisceau (1 four à source de faisceau est standard), d'un ensemble de débitmètres (un ensemble de gaz argon) avec une fenêtre d'observation en verre φ150.
3. Après avoir reçu la machine à enduire par pulvérisation cathodique à tête unique, nous vous fournirons également des services après-vente complets, tels que des conseils à distance.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation du dispositif de revêtement par pulvérisation cathodique magnétron sous vide élevé :
L'enrobeuse par pulvérisation magnétron sous vide poussé VTC-1HD-ZF2 est un équipement multifonctionnel de revêtement sous vide poussé, incluant un instrument de pulvérisation magnétron monocible. Elle permet de préparer des films ferroélectriques monocouches ou multicouches, des films conducteurs, des films d'alliage, des films semi-conducteurs, des films céramiques, des films diélectriques, des films optiques, des films d'oxyde, des films durs, des films de polytétrafluoroéthylène, etc.
Avantages du revêtement par pulvérisation plasma magnétron :
1. L'enrobeuse par pulvérisation plasma magnétron est équipée d'une nacelle chauffante pour dépôt en phase vapeur, particulièrement adaptée au dépôt en phase vapeur de films métalliques sensibles à l'oxygène (tels que Ti, Al, Au, etc.). Elle est équipée d'un déflecteur rotatif, de deux fours à faisceau (dont un four à faisceau standard) et d'un jeu de débitmètres (dont un à argon) avec hublot d'observation en verre φ150.
2. Champ d'application du revêtement par pulvérisation plasma magnétron : préparation d'appareils de matériaux perovskites, matériaux bidimensionnels, cellules solaires photovoltaïques, etc.
3.3. Enduiseur par pulvérisation cathodique à tête unique. Puissance d'entrée : 220 V CA/50 Hz. Puissance < 3,5 kW.
Paramètres techniques du dispositif de revêtement par pulvérisation plasma magnétron :
| Nom du produit | Enrobeuse par pulvérisation cathodique magnétron à vide élevé VTC-1HD-ZF2 | |
| Modèle de produit | VTC-1HD-ZF2 | |
| Paramètres principaux | 1. Chambre à vide : φ324×330 Vide ultime 8.0×10-5Pa (système de pompe moléculaire) Taux de fuite : 2,0×10-10Pa.m3/s Le matériau est en acier inoxydable 304 soudé, traitement de polissage de surface électrochimique. La partie active est scellée avec une bague d'étanchéité en caoutchouc et la partie inactive est scellée avec une bague d'étanchéité en cuivre. La transmission de puissance adopte une liaison par couplage magnétique. La chambre à vide possède une position cible de contrôle magnétique, un ensemble d'électrodes d'évaporation (deux) et 2 positions de four à source de faisceau (four à source de faisceau standard à 1 faisceau). Un ensemble de débitmètres (un ensemble de gaz argon) avec une fenêtre d'observation en verre φ150 et une interface à bride C35 est réservé. | |
2. Tête de cible de pulvérisation : 2 pouces (φ50,8 mm) Vide de travail : 10 Pa ~ 0,2 Pa. Taux d'utilisation du matériau cible : >35 % (cible en cuivre standard de 3 mm, vide de surface cible 0,5 Pa) Puissance MAX : < 240 W (entièrement refroidi) Tension d'isolement : > 2000 V (avec alimentation CC de 1 500 W) | ||
3. Résistance à l'évaporation : Tension de sortie d'évaporation : AC 0-8 V réglable en continu. Courant limite d'évaporation 200A. Puissance d'évaporation limite ＜1,6 kW. La température est incontrôlable et non mesurable. | ||
4. Four à source de faisceau : Capacité du creuset : 3CC. Température de chauffage : température ambiante à 700°C. La température de chauffage peut être mesurée, ajustée et contrôlée. Précision du contrôle de la température : ±0,5°C. Creuset en quartz avec déflecteur et thermocouple en standard. Alimentation : 500W, 36V. | ||
5. Étape d'échantillonnage : φ120. Contrôle de la température : température ambiante - 500°C. Vitesse : 1-20 tr/min. La platine d'échantillonnage peut être relevée et abaissée manuellement, avec une course réglable maximale de 50 mm. | ||
6. Mesureur d'épaisseur de film EQ-TM106-1. 1) Alimentation : DC 5V (±10%), courant maximum 400mA. 2) Résolution de fréquence : ±0,03 Hz. 3) Résolution de l'épaisseur du film : 0,0136 Å (aluminium). 4) Précision de l'épaisseur du film : ± 0,5 %, en fonction des conditions du processus, notamment de la position du capteur, de la contrainte du matériau, de la température et de la densité. 5) Vitesse de mesure : 100 ms-1 s/temps, réglable. 6) Plage de mesure : 500000Å (aluminium). 7) Cristal de capteur standard : 6 MHz. 8) Interface informatique : interface série RS-232/485 (débit en bauds réglable sur 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400, bit de données : 8, bit d'arrêt : 1, contrôle : aucun) 9) Sortie analogique : résolution 8 bits, sortie de modulation de largeur d'impulsion PWM (collecteur ouvert ou sortie interne 5 V) 10) Environnement de travail : température 0-50℃, humidité 5%-85%RH, pas de condensation. 11) Dimensions : 90 mm × 50 mm × 18 mm. | ||
| 7. L'équipement est équipé en standard d'un refroidisseur (modèle KJ5000). Les clients sont tenus de fournir leur propre refroidisseur et de l'eau déionisée ou purifiée. | ||
| 8. Puissance d'entrée de l'ensemble de la machine : 220 V CA/50 Hz. Puissance < 3,5 kW. | ||
9. Spécifications du produit : Taille : environ 1100 mm × 650 mm × 1100 mm. Poids : environ 160 kg. |
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À propos de nous:
Nous disposons d'équipements de production de pointe et d'un système de gestion de la qualité rigoureux afin de garantir la conformité de chaque produit aux normes internationales. Notre machine de revêtement par pulvérisation cathodique mono-tête est particulièrement adaptée à l'évaporation de films métalliques sensibles à l'oxygène. Ses performances sont stables et largement utilisées dans la recherche sur les matériaux. Notre équipe R&D innove sans cesse, en tenant compte de la demande du marché et des retours clients, pour proposer des solutions toujours plus précises et performantes. Forts de nombreuses années d'expérience et d'un savoir-faire technique reconnu, nous avons acquis une solide réputation dans le secteur et gagné la reconnaissance de nombreux clients.
