Instrument de pulvérisation magnétronique sous vide poussé
1. Ce système de pulvérisation cathodique magnétronique à vide poussé a été développé indépendamment par nos soins, et l'effet de préparation est intuitif et contrôlable.
2. Le système de pulvérisation cathodique magnétronique à vide poussé peut être équipé de plusieurs canons à cible et remplacé selon les besoins.
3. Le système de pulvérisation cathodique magnétronique à vide poussé présente une grande adaptabilité et un bon rendement, surpassant de loin les produits similaires du même secteur.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 22 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation des équipements de pulvérisation cathodique magnétronique :
Le système de pulvérisation cathodique magnétron sous vide poussé VTC-600G est un équipement de revêtement de conception récente, développé en interne. Il permet la préparation de films monocouches ou multicouches : ferroélectriques, conducteurs, alliages, semi-conducteurs, céramiques, diélectriques, optiques, oxydes, films durs, polytétrafluoroéthylène, etc. Équipé de plusieurs canons à cibles, le VTC-600G utilise une alimentation RF adaptée pour la pulvérisation de matériaux non conducteurs et une alimentation CC adaptée pour la pulvérisation de matériaux conducteurs. Comparé aux équipements similaires, le VTC-600G se distingue par sa large diffusion, sa compacité et sa simplicité d'utilisation. Il constitue un outil idéal pour la préparation de films en laboratoire, et particulièrement adapté à la recherche sur les électrolytes solides et les OLED.
Principales caractéristiques des équipements de pulvérisation cathodique magnétronique :
·L'instrument de pulvérisation cathodique magnétronique sous vide peut être équipé de plusieurs canons à cible, et l'alimentation RF correspondante est utilisée pour le revêtement par pulvérisation de matériaux cibles non conducteurs, et l'alimentation CC correspondante est utilisée pour le revêtement par pulvérisation de matériaux conducteurs (le canon à cible peut être remplacé à volonté selon les besoins du client).
L'instrument de pulvérisation cathodique magnétronique sous vide permet de préparer une variété de couches minces et est largement utilisé.
L'instrument de pulvérisation cathodique magnétronique sous vide est de petite taille et facile à utiliser.
·L'ensemble de la machine présente une conception modulaire, et la chambre à vide, le groupe de pompe à vide et l'alimentation électrique de contrôle sont des conceptions séparées, qui peuvent être ajustées en fonction des besoins réels des utilisateurs.
L'alimentation électrique peut être choisie en fonction des besoins réels de l'utilisateur. Une seule alimentation peut alimenter plusieurs canons cibles, ou plusieurs alimentations peuvent alimenter un seul canon cible.
Paramètres techniques de l'instrument de pulvérisation cathodique magnétronique sous vide :
Nom du produit | Instrument de pulvérisation magnétronique à vide poussé VTC-600G | |
Modèle de produit | VTC-600G | |
Paramètres principaux | 1. Structure : structure de porte avant de bureau, système d'échappement arrière. 2. Aspiration ultime : 6,0 × 10-5Bien. 3. Taux de fuite : mètres 1h≤0,5Pa. 4. Le temps d'échappement est d'environ 20 minutes, de l'atmosphère à 5,0×10-3.5. Groupe de pompes à vide : pompe mécanique + pompe moléculaire. 6. Platine porte-échantillon : φ140, température ambiante -500 °C, précision ±1 °C (la température peut être augmentée selon les besoins), vitesse de rotation réglable de 5 à 20 tr/min. Une fonction de polarisation peut être ajoutée sur demande pour obtenir un revêtement de qualité supérieure. 7. Système de remplissage de gaz : 2 débits massiques (Argon/azote chacun). 8. L'angle entre la tête cible et l'axe central de la platine porte-échantillon est de 34°. 9. Nombre de têtes cibles : 3 (à 120° l'une de l'autre). 10. Méthode de refroidissement du canon cible : refroidissement à l'eau. 11. Taille du matériau cible : φ2″, épaisseur 0,1-5 mm (l'épaisseur varie en fonction des différents matériaux cibles). | |
12. Spécifications du produit : · Dimensions complètes de la machine : 700 mm × 852 mm × 1529 mm ; |  | |
Accessoires optionnels pour équipements de pulvérisation magnétronique :
| NON. | Nom | Fonction | Image |
| 1 | déflecteur de l'étage d'échantillonnage | (facultatif) |
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Garantie:
Garantie limitée d'un an avec assistance à vie (hors pièces rouillées dues à des conditions de stockage inadéquates).
Logistique:
À propos de nous:
Nous sommes une entreprise de haute technologie spécialisée dans la recherche, le développement et la production de machines de revêtement, et nous sommes également un leader du secteur. Chacun de nos produits est conçu avec soin et rigoureusement testé par nos ingénieurs, garantissant ainsi des performances et une précision optimales. Au-delà de la qualité du produit, nous accordons une grande importance à l'innovation technologique et à la relation client, et nous nous engageons à fournir des instruments de laboratoire de pointe à nos clients du monde entier.
