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Coucheuse de pulvérisation plasma magnétron à vide poussé à tête unique
La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique VTC-600-1HD est un équipement de revêtement sous vide poussé nouvellement développé par notre société et est utilisée pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film d'alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc. La coucheuse de pulvérisation magnétron à tête unique VTC-600-1HD est équipée d'un pistolet cible, choisissant une cible magnétique forte ou une cible magnétique faible.
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Machine de revêtement par pulvérisation plasma magnétron sous vide poussé à double tête
L'appareil de pulvérisation magnétron à double tête VTC-600-2HD est un équipement de revêtement sous vide poussé nouvellement développé par notre société et est utilisé pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film en alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc. La coucheuse par pulvérisation magnétron à double tête VTC-600-2HD est équipée de deux pistolets cibles et de deux alimentations, une alimentation RF pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux non conducteurs. matériaux et une alimentation CC pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux conducteurs.
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Machine de pulvérisation par pulvérisation plasma avec 3 sources de pulvérisation
La coucheuse de pulvérisation magnétron à trois têtes VTC-600-3HD est un équipement de revêtement nouvellement développé par notre société et est utilisée pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film en alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, un film diélectrique. , film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc. La coucheuse par pulvérisation magnétron à trois têtes VTC-600-3HD est équipée de trois pistolets cibles, d'une alimentation RF pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux non conducteurs et de deux alimentations CC. fournitures pour le revêtement par pulvérisation cathodique de matériaux conducteurs.
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Coucheuse de pyrolyse par pulvérisation ultrasonique
Le pulvérisateur de colle/pulvérisateur de pyrolyse par pulvérisation ultrasonique MSK-USP-04C utilise un moteur pas à pas et un microprocesseur pour contrôler la pompe volumétrique afin d'assurer une transmission précise des solutions à travers le set de perfusion et la continuité du processus de pulvérisation ultrasonique. Un atomiseur à ultrasons est utilisé pour préparer un mince revêtement micro-nano, et un moteur pas à pas est utilisé pour contrôler l'atomiseur pour qu'il se déplace dans les directions des axes X et Y, et la vitesse de déplacement peut être ajustée dans une certaine plage pour garantir l'uniformité du revêtement sur la surface du substrat.
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Pousse-seringue avec écran tactile
Le pousse-seringue monocanal EQ-300SP-I est composé d'un moteur pas à pas et de son entraîneur, d'une tige de vis et d'un support, ainsi que d'une vis et d'un écrou alternatifs. L'écrou est relié au piston de la seringue et la solution est contenue dans la seringue, ce qui permet de réaliser une transmission de liquide de haute précision, douce et sans pulsation. Il est principalement utilisé dans l'approvisionnement en solution du système de pulvérisation par atomisation ultrasonique et d'électrofilage.
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Machine de pulvérisation par pulvérisation plasma avec 3 sources de pulvérisation et boîte à gants
Le système de préparation de batterie à couche mince VGB-600-3HD peut effectuer des opérations expérimentales dans une boîte à gants et est utilisé pour préparer un film ferroélectrique monocouche ou multicouche, un film conducteur, un film en alliage, un film semi-conducteur, des films céramiques, un film diélectrique, film optique, film d'oxyde, film dur, film PTFE, etc. Le système est équipé de trois pistolets cibles et d'une alimentation RF pour le revêtement par pulvérisation cathodique de divers matériaux cibles. L'alimentation RF peut être connectée à n'importe quelle tête cible par un commutateur de transfert.
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