• Spin Coater (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) avec 3 mandrins à vide

    Spin Coater (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) avec 3 mandrins à vide

    VTC-100 Vacuum Spin Coater est équipé de 3 mandrins à vide (pour la norme) de différentes tailles, et différents mandrins à vide peuvent être utilisés en fonction de la taille des échantillons. Pendant le travail, la coucheuse centrifuge sous vide VTC-100 utilise la méthode d'adsorption sur plaque à vide pour fixer l'échantillon sur la plaque d'échantillon. L'équipement utilise un programme en deux étapes pour contrôler la vitesse.

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  • Mandrin à vide programmable Spin Coater (500-6000 tr/min, 8

    Mandrin à vide programmable Spin Coater (500-6000 tr/min, 8" Max)

    VTC-200 Vacuum Spin Coater présente les avantages d'un fonctionnement simple, d'un nettoyage pratique et d'une petite taille. Il est principalement utilisé dans le processus de croissance des films dans les laboratoires des collèges et universités et des instituts de recherche scientifique. Pendant le travail, la coucheuse à rotation sous vide VTC-200 utilise la méthode d'adsorption sur plaque à vide pour fixer l'échantillon sur la plaque d'échantillon. L'équipement utilise un programme en deux étapes pour contrôler la vitesse.

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  • Coucheuse rotative haute vitesse (10 000 tr/min et 5 po max.) avec couverture UV

    Coucheuse rotative haute vitesse (10 000 tr/min et 5 po max.) avec couverture UV

    VTC-100PA-UV UV Spin Coater convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Le couvercle supérieur adopte une source de lumière UV et est particulièrement adapté aux matériaux sensibles à la lumière UV, qui peuvent rapidement solidifier le film enduit. De plus, la lampe UV a également une fonction de polymérisation, qui peut polymériser le monomère en un film polymère.

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  • Machine de revêtement par centrifugation sous vide et à atmosphère contrôlée

    Machine de revêtement par centrifugation sous vide et à atmosphère contrôlée

    VTC-200PV Vacuum Spin Coater convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. matériaux de film qui s'oxydent facilement et se détériorent à l'air. Une pince est utilisée pour fixer l'échantillon lorsque la chambre est mise sous vide. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes, et chaque ensemble contient 6 étapes de fonctionnement.

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