• Machine à enduire de tour sans vide de bureau

    Machine à enduire de tour sans vide de bureau

    VTC-50A Spin Coater adopte des systèmes d'alimentation indépendants pour la partie moteur et la partie commande, et le système de contrôle de vitesse adopte un micro-ordinateur à puce unique avec une anti-interférence élevée à contrôler, de sorte que la vitesse de rotation est très élevée et stable dans la gamme de 1000 -8000RPM. La coucheuse a deux étapes pendant le fonctionnement, à savoir l'étape T1 à basse vitesse et l'étape T2 à haute vitesse.

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  • Spin Coater (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) avec 3 mandrins à vide

    Spin Coater (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) avec 3 mandrins à vide

    VTC-100 Vacuum Spin Coater est équipé de 3 mandrins à vide (pour la norme) de différentes tailles, et différents mandrins à vide peuvent être utilisés en fonction de la taille des échantillons. Pendant le travail, la coucheuse centrifuge sous vide VTC-100 utilise la méthode d'adsorption sur plaque à vide pour fixer l'échantillon sur la plaque d'échantillon. L'équipement utilise un programme en deux étapes pour contrôler la vitesse.

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  • Spin Coater compact (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) Conception à mandrin bas

    Spin Coater compact (8 000 tr/min, plaquette de 4 po max.) Conception à mandrin bas

    La coucheuse à rotation sous vide VTC-100B est une version améliorée de la coucheuse à rotation sous vide VTC-100. Le capot supérieur replié pour l'ouverture et la fermeture, et est équipé d'un verrou de sécurité. En même temps, il a la fonction de protection à couvercle ouvert pour mieux garantir la sécurité de l'opérateur.

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  • Mandrin à vide programmable Spin Coater (500-6000 tr/min, 8

    Mandrin à vide programmable Spin Coater (500-6000 tr/min, 8" Max)

    VTC-200 Vacuum Spin Coater présente les avantages d'un fonctionnement simple, d'un nettoyage pratique et d'une petite taille. Il est principalement utilisé dans le processus de croissance des films dans les laboratoires des collèges et universités et des instituts de recherche scientifique. Pendant le travail, la coucheuse à rotation sous vide VTC-200 utilise la méthode d'adsorption sur plaque à vide pour fixer l'échantillon sur la plaque d'échantillon. L'équipement utilise un programme en deux étapes pour contrôler la vitesse.

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  • Coucheuse rotative haute vitesse (10 000 tr/min et 5

    Coucheuse rotative haute vitesse (10 000 tr/min et 5" max.)

    VTC-100PA Vacuum Spin Coater convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Il peut être utilisé pour une solution de revêtement acide fort et alcalin fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour la norme) selon la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes, et chaque ensemble contient 6 étapes de fonctionnement.

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  • Coucheuse rotative à grande vitesse avec couverture chauffante à 100 ° C

    Coucheuse rotative à grande vitesse avec couverture chauffante à 100 ° C

    VTC-100PA-I Vacuum Spin Coater convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Il peut être utilisé pour une solution de revêtement acide fort et alcalin fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour la norme) selon la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes, et chaque ensemble contient 6 étapes de fonctionnement.

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  • Coucheuse rotative à grande vitesse avec couverture chauffante à 200 ° C

    Coucheuse rotative à grande vitesse avec couverture chauffante à 200 ° C

    VTC-100PA-II Vacuum Spin Coater convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Il peut être utilisé pour une solution de revêtement acide fort et alcalin fort. L'équipement est équipé de deux mandrins à vide de tailles différentes (pour la norme) selon la taille de l'échantillon. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes, et chaque ensemble contient 6 étapes de fonctionnement.

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  • Coucheuse rotative haute vitesse (10 000 tr/min et 5 po max.) avec couverture UV

    Coucheuse rotative haute vitesse (10 000 tr/min et 5 po max.) avec couverture UV

    VTC-100PA-UV UV Spin Coater convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. Le couvercle supérieur adopte une source de lumière UV et est particulièrement adapté aux matériaux sensibles à la lumière UV, qui peuvent rapidement solidifier le film enduit. De plus, la lampe UV a également une fonction de polymérisation, qui peut polymériser le monomère en un film polymère.

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  • Revêtement rotatif anti-corrosion (6 000 tr/min et plaquette de 6 pouces max.)

    Revêtement rotatif anti-corrosion (6 000 tr/min et plaquette de 6 pouces max.)

    VTC-200P Vacuum Spin Coater convient au processus de semi-conducteur, au cristal, au disque optique, à la fabrication de plaques et au revêtement de surface, etc. L'équipement peut stocker 12 ensembles de programmes, et chaque ensemble contient 6 étapes de fonctionnement. Le couvercle supérieur de la chambre peut chauffer l'échantillon (fonction facultative), ce qui est bénéfique pour le processus de revêtement de matériaux à couche mince à haute viscosité.

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