Instrument de pulvérisation magnétron à trois cibles
1. L'équipement de revêtement à trois cibles a une haute précision, une petite erreur de résultat et une plus grande tranquillité d'esprit lors de l'utilisation.
2. L'équipement de revêtement à trois cibles est facile à utiliser et réduit le temps d'apprentissage.
3. L'équipement de revêtement à trois cibles convient à une variété de matériaux, réduisant ainsi la consommation de plusieurs équipements.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation de l'équipement de revêtement sous vide à trois cibles :
L'équipement de revêtement sous vide à trois cibles VTC-600-3HD-1000 est un équipement de revêtement sous vide poussé récemment développé par notre société. Il permet la préparation de films ferroélectriques monocouches ou multicouches, de films conducteurs, de films d'alliage, de films semi-conducteurs, de films céramiques, de films diélectriques, de films optiques, de films d'oxyde, de films durs, de films de polytétrafluoroéthylène, etc. Il est équipé de trois canons à cible et de trois alimentations : une alimentation RF pour le revêtement par pulvérisation cathodique des matériaux non conducteurs, une alimentation CC pour le revêtement par pulvérisation cathodique des matériaux conducteurs, et une cible magnétique puissante pour le revêtement par pulvérisation cathodique des matériaux ferromagnétiques. Comparé à des équipements similaires, l'équipement de revêtement sous vide à trois cibles présente les avantages d'une taille compacte et d'une grande facilité d'utilisation, et permet l'utilisation d'une large gamme de matériaux. C'est l'équipement idéal pour la préparation de films de matériaux variés en laboratoire.
Principales caractéristiques du revêtement par pulvérisation cathodique à triple cible sous vide élevé :
1. Le pulvérisateur à triple cible à vide élevé est équipé de trois pistolets cibles, deux alimentations RF correspondantes sont utilisées pour le revêtement par pulvérisation de matériaux cibles non conducteurs et une alimentation CC correspondante est utilisée pour le revêtement par pulvérisation de matériaux conducteurs.
2. Le dispositif de revêtement par pulvérisation cathodique à triple cible sous vide élevé peut préparer une variété de films minces et est largement utilisé.
3. Le pulvérisateur à triple cible à vide élevé est de petite taille et facile à utiliser.
Paramètres techniques de l'équipement de revêtement à trois cibles :
| Nom du produit | VTC-600-3HD-1000 Instrument de pulvérisation magnétron à double cible |
Modèle de produit | VTC-600-3HD-1000 |
| Conditions d'installation | Cet équipement doit être utilisé dans des conditions de température de 25 ℃ ± 15 ℃ et d'humidité de 55 % HR ± 10 % HR. 1. Eau : L'équipement est équipé d'un refroidisseur à circulation automatique (remplissage d'eau purifiée ou déionisée). 2. Alimentation : CA 220 V, 50 Hz, avec mise à la terre appropriée requise. 3. Gaz : La chambre doit être remplie d'argon (pureté ≥ 99,99 %). L'utilisateur doit préparer une bouteille d'argon (avec raccord double Ø 6 mm) et un régulateur de pression. 4. Établi : Dimensions 1500 mm × 600 mm × 700 mm, avec une capacité de charge ≥ 200 kg. 5. Ventilation : Obligatoire. |
Paramètres principaux | 1. Puissance d'entrée : 220 V/50 Hz. 2. Nombre de cibles de pulvérisation : 3. 3. Diamètre intérieur de la chambre : Ø300mm. 4. Méthode de refroidissement du pistolet cible : refroidissement par eau. 5. Degré de vide ultime : 7,4E-5pa. 6. Spécifications de la chambre à vide : Φ300×330 mm. 7. Système de vide : pompe mécanique VRD-16, pompe turbomoléculaire FF-100/150. 8. Rétablir le vide : Le système est pompé de l'atmosphère à 5,0E-3pa≤30 min (le système est exposé à l'atmosphère pendant une courte période). 9. Système de gonflage : débitmètre massique à 2 voies (1 voie argon 100scc, 1 voie argon 200scc) Un gaz spécial peut être personnalisé. 10. Spécifications de la cible de pulvérisation : Φ2", épaisseur 0,1-5 mm (l'épaisseur varie en raison des différents matériaux cibles). 11. Platine d'échantillon : Φ70 mm // chauffable (température ambiante ~ 1000℃). |
Spécifications du produit | Taille de l'hôte : largeur 900 mm × profondeur 650 mm × hauteur 1100 mm |
Accessoires en option
| Non. | Nom | Catégorie de fonction | Image |
| 1 | Cibles diverses (or, indium, argent, platine, etc.) | Facultatif | - |
| 2 | Cible magnétique puissante (pour la pulvérisation de matériaux ferromagnétiques) | Facultatif | - |
| 3 | Masque | Facultatif | - |
| 4 | Platine d'échantillon vibrante | Facultatif | - |
| 5 | Dispositif de revêtement rotatif à double couche | Facultatif |  |
Garantie:
Garantie limitée d'un an avec assistance à vie (hors pièces rouillées en raison de conditions de stockage inadéquates).
Logistique
À propos de nous:
Notre entreprise est profondément impliquée dans le secteur cinématographique depuis de nombreuses années et possède une solide expérience. Nous disposons également d'une variété d'équipements adaptés à différents matériaux pour répondre à vos besoins variés. Nous pouvons également vous aider à tester l'efficacité de nos équipements. Vous pouvez nous fournir des échantillons et nous les préparerons pour vous permettre de mieux comprendre l'efficacité de nos produits. Si vous êtes satisfait de nos produits, vous pourrez les acheter et travailler plus sereinement.
De la consultation au service après-vente, nous offrons un service de premier ordre à chaque client. Notre équipe de professionnels vous recommande le matériel adapté, vous fournit une assistance technique pendant l'utilisation du produit, répond à vos questions et vous accompagne dans la réalisation de votre projet. Forts de nos nombreuses années d'expérience, nous sommes convaincus de pouvoir aider davantage d'entreprises à atteindre leurs objectifs.
