Instrument de pulvérisation magnétronique à trois cibles
1. L'équipement de revêtement à trois cibles offre une haute précision, une faible erreur de résultat et une plus grande tranquillité d'esprit lors de son utilisation.
2. L'équipement de revêtement à trois cibles est facile à utiliser et réduit le temps d'apprentissage.
3. L'équipement de revêtement à trois cibles convient à une variété de matériaux, réduisant ainsi la consommation de plusieurs équipements.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Chine
- 10 jours ouvrables
- 50 ensembles
- information
Présentation d'un équipement de revêtement sous vide à trois cibles :
L'équipement de revêtement sous vide à trois cibles VTC-600-3HD-1000 est un système de revêtement sous vide poussé récemment développé par notre société. Il permet la préparation de films monocouches ou multicouches ferroélectriques, conducteurs, en alliage, semi-conducteurs, céramiques, diélectriques, optiques, d'oxyde, durs, en polytétrafluoroéthylène, etc. L'équipement VTC-600-3HD-1000 est doté de trois canons à cibles et de trois alimentations : une alimentation RF pour la pulvérisation cathodique de matériaux non conducteurs, une alimentation CC pour la pulvérisation cathodique de matériaux conducteurs, et une cible magnétique puissante pour la pulvérisation cathodique de matériaux ferromagnétiques. Comparé aux équipements similaires, le VTC-600-3HD-1000 présente l'avantage d'être compact, simple d'utilisation et compatible avec une large gamme de matériaux. C'est l'équipement idéal pour la préparation de films de divers matériaux en laboratoire.
Principales caractéristiques du pulvérisateur cathodique à triple cible sous vide poussé :
1. Le pulvérisateur cathodique à triple cible sous vide poussé est équipé de trois canons à cible, deux alimentations RF correspondantes sont utilisées pour le revêtement par pulvérisation de matériaux cibles non conducteurs, et une alimentation CC correspondante est utilisée pour le revêtement par pulvérisation de matériaux conducteurs.
2. Le pulvérisateur cathodique à triple cible sous vide poussé permet de préparer une variété de films minces et est largement utilisé.
3. Le pulvérisateur cathodique à triple cible sous vide poussé est de petite taille et facile à utiliser.
Paramètres techniques de l'équipement de revêtement à trois cibles :
| Nom du produit | VTC-600-3HD-1000 Trois ciblesInstrument de pulvérisation magnétronique |
Modèle de produit | VTC-600-3HD-1000 |
| Conditions d'installation | Cet équipement doit être utilisé dans des conditions de température de 25 ℃ ± 15 ℃ et d'humidité de 55 % HR ± 10 % HR. 1. Eau : L'équipement est doté d'un refroidisseur à circulation automatique (à remplir d'eau purifiée ou déminéralisée). 2. Alimentation : CA 220 V, 50 Hz, avec mise à la terre appropriée requise. 3. Gaz : La chambre doit être remplie d’argon (pureté ≥ 99,99 %). L’utilisateur doit se munir d’une bouteille d’argon (avec raccord à double virole de Ø 6 mm) et d’un détendeur. 4. Établi : Dimensions 1500 mm × 600 mm × 700 mm, avec une capacité de charge ≥ 200 kg. 5. Ventilation : Obligatoire. |
Paramètres principaux | 1. Alimentation : 220 V/50 Hz. 2. Nombre de cibles de pulvérisation : 3. 3. Diamètre intérieur de la chambre : Ø300 mm. 4. Méthode de refroidissement du canon cible : refroidissement à l'eau. 5. Degré de vide ultime : 7,4E-5pa. 6. Spécifications de la chambre à vide : Φ300×330 mm. 7. Système de vide : pompe mécanique VRD-16 pompe turbomoléculaire FF-100/150. 8. Rétablir le vide : Le système est pompé de l'atmosphère à 5,0E-3pa≤30 min (le système est exposé à l'atmosphère pendant une courte période). 9. Système de gonflage : débitmètre massique à 2 voies (1 voie argon 100scc, 1 voie argon 200scc). Un gaz spécial peut être personnalisé. 10. Spécifications de la cible de pulvérisation : Φ2", épaisseur 0,1-5 mm (l'épaisseur varie en fonction des différents matériaux de la cible). 11. Platine d'échantillon : Φ70mm//chauffable (température ambiante ~ 1000℃). |
Spécifications du produit | Dimensions du boîtier : largeur 900 mm × profondeur 650 mm × hauteur 1100 mm |
Accessoires en option
| Non. | Nom | Catégorie de fonction | Image |
| 1 | Cibles diverses (or, indium, argent, platine, etc.) | Facultatif | - |
| 2 | Cible magnétique intense (pour la pulvérisation cathodique de matériaux ferromagnétiques) | Facultatif | - |
| 3 | Masque | Facultatif | - |
| 4 | Platine vibrante pour échantillon | Facultatif | - |
| 5 | Dispositif de revêtement rotatif à double couche | Facultatif |  |
Garantie:
Garantie limitée d'un an avec assistance à vie (hors pièces rouillées dues à des conditions de stockage inadéquates).
Logistique
À propos de nous:
Notre entreprise est profondément ancrée dans le secteur de la production cinématographique depuis de nombreuses années et bénéficie d'une solide expérience. Nous disposons également d'une gamme variée d'équipements adaptés à différents matériaux afin de répondre à vos besoins spécifiques. Nous pouvons également vous aider à tester l'efficacité de nos équipements. Vous pouvez nous fournir des échantillons et nous préparerons des prototypes pour vous permettre d'apprécier plus concrètement le rendu de nos produits. Si nos produits vous conviennent, vous pourrez les acquérir et ainsi optimiser votre travail.
De la consultation au service après-vente, nous offrons un service de première qualité à chaque client. Notre équipe de professionnels vous conseillera sur l'équipement le plus adapté à vos besoins, vous apportera une assistance technique lors de l'utilisation du produit, répondra à vos questions et vous aidera à mener à bien votre projet. Forts de notre longue expérience, nous sommes convaincus de pouvoir aider de nombreuses entreprises à atteindre leurs objectifs.
